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UV光解裝置

參  考  價:面議
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產品型號XL-UV系列

品牌

廠商性質生產商

所在地北京市

更新時間:2022-05-30 15:05:02瀏覽次數:1717次

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光催化氧化設備利用光化學除臭技術對有害氣體,特別是揮發(fā)性有機氣體進行降解去除,從而達到除臭、凈化空氣的目的的產品。

除臭機理:
1、靜電除塵過濾:濾除塵埃、油脂等,
2、光解除臭:廢氣在強烈紫外線照射下發(fā)生快速光解,分子鏈斷裂分解成小分子基團。廢 氣
中的水分子和氧在特定頻率的光波及催化劑的作用下生成氧化能力*的羥基自由基、臭
氧、基發(fā)態(tài)氧原子協(xié)同參與同廢氣中的小分子基團的氧化反應,使異味大幅衰減或*消失。
3、催化:紫外線陣列中設有催化陣列,由基板和納米級金屬催化劑組成,具有較大的比較面積,
在紫外線照射時其表面吸附的氧和水分子被激活,產生活性*的羥基自由基OH 、過氧羥基
自由基HO2、超氧陰離子O2-等活性自由基,這些物質壽命極短,氧化活性*,與光解后及
初步氧化后的小分子接觸反應,zui終生成H2O、CO2等小分子物質,實現殺菌、除味、自潔、凈
化空氣的目的。
4、上述這些環(huán)節(jié)是同時相互協(xié)同作用,交叉進行,而不是獨立的、有順序的反應過程。

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