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深圳市瑞盛科技有限公司


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高分辨聚焦離子束掃描電鏡XEIA

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更新時間:2021-08-18 18:32:01瀏覽次數(shù):373次

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經(jīng)營模式:代理商

商鋪產(chǎn)品:78條

所在地區(qū):廣東深圳市

聯(lián)系人:杜先生 (銷售工程師)

產(chǎn)品簡介

新一代超高分辨雙束聚焦掃描電鏡工作平臺 XEIA3,是一款*的集多種功能于一體的新型雙束聚焦(XE)掃描電子顯微鏡,它性能優(yōu)異,為用戶提供的整體解決方案。XEIA3不僅配有大功率的FIB以進行超快速的微米或納米級切割,還具備出色的低能粒子束成像能力,同時亦可以進行快速可靠地顯微分析以及樣品分析的3D重建。

詳細介紹

 關(guān)鍵參數(shù)特征
功能強大的SEM電子光學系統(tǒng),采用高亮度的Schottky發(fā)射器為電子源,具有束流大,噪點低,非凡的成像能力等特點
 In-Beam探測器能夠確保在極小的工作距離下仍能收集信號,進行高品質(zhì)成像
 采用Xe等離子體源的超快速FIB系統(tǒng)。 束流大,具有驚人的離子束切割速度,因此在切除大體積塊狀材料時卓有成效;同時較低的離子束流便于完成樣品表面拋光
電子束減速技術(shù)(BDT助力于進行超低著陸電壓下的成像
隔離材料的植入、摻雜或降解更少,這點對于半導體行業(yè)相當重要
SEM FIB兩系統(tǒng)互補,即使用FIB進行樣品切割或沉積時,可同時進行SEM成像拍照
TESCAN電鏡的各種自動化操作技術(shù),如In-Flight Beam TracingTM技術(shù)可通過計算精確的調(diào)節(jié)高分辨率成像所需的參數(shù)設置(例如工作距離WD、放大倍率等)
DrawBeam 軟件模塊是一個便于進行圖案設計的工具,3D功能亦很強大,使用它可在FIB切割或粒子束蝕刻等過程可實時獲取圖像
3D EDX3D EBSD等三維顯微分析技術(shù)帶來全新的解決方案
集成了飛行時間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)與 掃描探針顯微技術(shù),可擴展的大樣品室,使用戶能夠進行6’’、8’’ and 12’’ 的晶片光刻檢驗12’’ 晶片光刻檢驗是TESCAN電鏡的技術(shù)能力
氣體注入系統(tǒng) (GIS) 有助于使FIB完成更多應用
高性能的電子成像能力,其成像速率可高達20 ns/pxl, 同時具備出色的沉積速率及超快的掃描速度

渦輪分子泵及前級泵的高效能有利于保持樣品室的清潔度;電子槍通過離子吸氣泵獲得真空


  為用戶需求提供具體解決方案


TESCAN公司不僅為用戶提供行業(yè)的*儀器設備,而且長期致力于為研究者提供的技術(shù)支持以推動人類科學與技術(shù)的進步 。XEIA3新型電鏡的推出,彰顯了TESCAN的這份使命感。同時,這點也體現(xiàn)在TESCAN積極地為用戶提供的定制化服務上。TESCAN愿攜手來自材料/生命科學以及半導體/工程等諸多行業(yè)領(lǐng)域的研究人員,共同迎接未來的挑戰(zhàn)。


  Xe等離子體源,極大地擴展FIB的應用能力


XEIA3型電鏡為雙束聚焦掃描電子顯微鏡,同時集成了以Xe等離子體為離子源的FIB系統(tǒng)和具有超高分辨率的SEM系統(tǒng)。FIBSEM兩系統(tǒng)的協(xié)同作用,能夠完成一項迄今為止尚未實現(xiàn)的功能——以極快的速度進行大塊材料的FIB切割去除。同時,SEM電子顯微系統(tǒng)具有低于2nm的分辨率,能夠幫助科學研究或高科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)并完成更多的應用。而且,大束流的等離子體離子源也能大大擴展該電鏡的使用范圍,幫助用戶完成更多工作。



  應用實例


半導體和微電子領(lǐng)域


Xe等離子體源的FIB系統(tǒng),能夠為用戶提供更加快速便捷的技術(shù)手段,使其更好地利用能譜(EDX)、波譜(WD)等化學成分分析方法,更能夠充分發(fā)揮3D EDX3D EBSD的功能及特點。同時,XEIA3還能夠搭載飛行時間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS),用于進行優(yōu)異分辨率的表面分析。以上可知,XEIA3是一個功能超級全面的分析平臺,其在材料科學領(lǐng)域所呈現(xiàn)的研究能力顯而易見。


    新材料及其形貌表征的研究
               晶體、陶瓷及高分子等非導電材料研究
   復雜結(jié)構(gòu)碳納米管的圖案結(jié)構(gòu)觀察
 
            碳納米管                             Ag納米線

  材料科學


XEIA3雙束聚焦離子束掃描電鏡配有大功率Xe等離子體源FIB系統(tǒng),特別適合半導體和微電子行業(yè)的檢測和應用。用戶可采用大束流進行快速FIB切割,大束流也適用于制備材料薄層切片或切割較大橫截面;使用中等束流進行拋光,并去除表面加工痕跡;小束流用于進行切割截面或薄層切片最后的精拋光。另外,FIB進行離子刻蝕能夠獲得更好的蝕刻圖案分辨率。


 


             制備薄片樣品                                  釬焊隆起界面細節(jié)觀察 

  生命科學


XEIA3聚焦離子束掃描電鏡的*成像能力,能夠在自然狀態(tài)下對多種生物樣品進行觀察、成像。生物樣品不需要噴涂導電層,也不用進行化學固定,因此整個分析過程大大簡化,非常便于用戶操作。



    微生物學
    生物醫(yī)學工程
    生物細胞與組織學
    細胞鑒定
    制藥學及制藥工程
    動力學過程的研究,如物質(zhì)晶化或溶解等過程
    顆粒物特性研究,如顆粒尺寸、孔隙率、顆粒結(jié)構(gòu)及污染物等

   
               白鼠大腦組織        一組纖維母細胞細節(jié)觀察

關(guān)鍵詞:掃描電子顯微鏡
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