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深圳市瑞盛科技有限公司
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更新時間:2021-08-18 18:32:01瀏覽次數(shù):373次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線新一代超高分辨雙束聚焦掃描電鏡工作平臺 XEIA3,是一款*的集多種功能于一體的新型雙束聚焦(XE)掃描電子顯微鏡,它性能優(yōu)異,為用戶提供的整體解決方案。XEIA3不僅配有大功率的FIB以進行超快速的微米或納米級切割,還具備出色的低能粒子束成像能力,同時亦可以進行快速可靠地顯微分析以及樣品分析的3D重建。
渦輪分子泵及前級泵的高效能有利于保持樣品室的清潔度;電子槍通過離子吸氣泵獲得真空
為用戶需求提供具體解決方案
TESCAN公司不僅為用戶提供行業(yè)的*儀器設備,而且長期致力于為研究者提供的技術(shù)支持以推動人類科學與技術(shù)的進步 。XEIA3新型電鏡的推出,彰顯了TESCAN的這份使命感。同時,這點也體現(xiàn)在TESCAN積極地為用戶提供的定制化服務上。TESCAN愿攜手來自材料/生命科學以及半導體/工程等諸多行業(yè)領(lǐng)域的研究人員,共同迎接未來的挑戰(zhàn)。
Xe等離子體源,極大地擴展FIB的應用能力
XEIA3型電鏡為雙束聚焦掃描電子顯微鏡,同時集成了以Xe等離子體為離子源的FIB系統(tǒng)和具有超高分辨率的SEM系統(tǒng)。FIB和SEM兩系統(tǒng)的協(xié)同作用,能夠完成一項迄今為止尚未實現(xiàn)的功能——以極快的速度進行大塊材料的FIB切割去除。同時,SEM電子顯微系統(tǒng)具有低于2nm的分辨率,能夠幫助科學研究或高科技產(chǎn)業(yè)開發(fā)并完成更多的應用。而且,大束流的等離子體離子源也能大大擴展該電鏡的使用范圍,幫助用戶完成更多工作。
半導體和微電子領(lǐng)域
Xe等離子體源的FIB系統(tǒng),能夠為用戶提供更加快速便捷的技術(shù)手段,使其更好地利用能譜(EDX)、波譜(WD)等化學成分分析方法,更能夠充分發(fā)揮3D EDX和3D EBSD的功能及特點。同時,XEIA3還能夠搭載飛行時間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS),用于進行優(yōu)異分辨率的表面分析。以上可知,XEIA3是一個功能超級全面的分析平臺,其在材料科學領(lǐng)域所呈現(xiàn)的研究能力顯而易見。
復雜結(jié)構(gòu)碳納米管的圖案結(jié)構(gòu)觀察
碳納米管 Ag納米線
XEIA3雙束聚焦離子束掃描電鏡配有大功率Xe等離子體源FIB系統(tǒng),特別適合半導體和微電子行業(yè)的檢測和應用。用戶可采用大束流進行快速FIB切割,大束流也適用于制備材料薄層切片或切割較大橫截面;使用中等束流進行拋光,并去除表面加工痕跡;小束流用于進行切割截面或薄層切片最后的精拋光。另外,FIB進行離子刻蝕能夠獲得更好的蝕刻圖案分辨率。
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