青海超純水設(shè)備_青海太陽能光伏產(chǎn)品清洗超水設(shè)備_青海太陽能單晶硅片清洗超純水設(shè)備

20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)方案

青海聚陽能硅業(yè)股份有限公司20噸每小時超純水設(shè)備系統(tǒng)技術(shù)方案采用預(yù)處理+二級反滲透+EDI+精混床除鹽工藝。青海聚陽能硅業(yè)股份有限公司，注冊資本20000萬元，總投資10億人民幣。我公司為了充分發(fā)揮青海省優(yōu)勢資源，發(fā)展太陽能光伏產(chǎn)業(yè)，在青海省西寧經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)東川工業(yè)園區(qū)建設(shè)了年產(chǎn)量單晶硅3500噸項(xiàng)目。改項(xiàng)目占地面積76650平方米（折合約為115畝），總建筑面積72000平方米。公司成產(chǎn)經(jīng)營太陽能單晶硅片、太陽能單晶硅棒、太陽能電池、太陽能應(yīng)用產(chǎn)品的研發(fā)、制造、加工及銷售的*光伏企業(yè)。

20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)滿足青海聚陽能硅業(yè)股份有限公司生產(chǎn)過程所需超純水。

1、20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)計(jì)依據(jù)

1.1原水：自來水

1.2產(chǎn)水用途：生產(chǎn)用水

1.3產(chǎn)水量：20 m3/h

1.4出水水質(zhì)：電阻率≥18 MΩ.cm

1.5出水水溫：常溫

2、工藝流程示意圖

3、工藝流程說明

3.1 系統(tǒng)組成

3.2 系統(tǒng)布局

預(yù)處理部分、二級反滲透部分、EDI部分、18M供水部分集中放置在*水站。為保證高純水的水質(zhì)和水量，將整個水處理系統(tǒng)置于PLC控制下運(yùn)行，并適時監(jiān)控。

3.3 控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

控制系統(tǒng)采用分散控制，集中監(jiān)視的控制系統(tǒng)。操作站選用PLC控制器控制，組成一個高可靠性的自動運(yùn)行和監(jiān)視控制的控制系統(tǒng)。       

3.4工藝流程簡圖

原水箱→原水泵→機(jī)械濾器→活性碳濾器→阻垢加藥裝置→保安過濾器→一級高壓泵→一級反滲透裝置→PH調(diào)節(jié)裝置→二級高壓泵→二級反滲透裝置→純水箱→純水泵→UV裝置→精密濾器→EDI設(shè)備→超純水箱→變頻水泵→除TOC裝置→精混床→精密濾器→用水點(diǎn)

4.0 工藝說明

4.1  預(yù)處理部分  目的：為反滲透裝置提供合格的進(jìn)水。

4.1.1原水預(yù)處理的目的和組成

A.反滲透設(shè)備系統(tǒng)進(jìn)水要求：

（1）污染指數(shù)：          SDI≤4；

（2）余氯：              <0.1 ppm

（3）濁度                <1NTU

（4）供水Fe3+             ≤0.01ppm。

（5）供水水溫適宜范圍    10～30℃。

（6）碳酸鈣飽和指數(shù)      LSI：<0

B.預(yù)處理系統(tǒng)就是通過過濾、吸附等方法使反滲透進(jìn)水達(dá)到以上要求，以實(shí)現(xiàn)以下目的：

（1）防止反滲透裝置膜面結(jié)垢（包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、鐵鋁氧化 物等）；

（2）防止膠體物質(zhì)及懸浮固體微粒對反滲透的污堵；

（3）防止有機(jī)物質(zhì)的對反滲透的污堵和降解；

（4）防止微生物對反滲透的污堵；

（5）防止氧化性物質(zhì)對反滲透膜的氧化破壞；

C.預(yù)處理系統(tǒng)的組成：包括機(jī)械濾器、活性炭濾器。

4.1.2機(jī)械濾器  機(jī)械濾器中的濾料包括多種規(guī)格的石英砂，用于除去原水中的懸浮物及及脫穩(wěn)后的膠體,以使出水的污染指數(shù)SDI<4達(dá)到RO進(jìn)水要求。

4.1.3活性炭濾器  活性炭被廣泛應(yīng)用于生活用水及食品工業(yè)、化工等工業(yè)用水的凈化，由于活性炭的比表面積很大，其表面又布滿了平均為20—30埃的微孔，因此，活性炭具有很高的吸附能力。此外，活性炭的表面有大量的羥基和羧基等官能團(tuán)，可以對各種性質(zhì)的有機(jī)物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)吸附，以及靜電引力作用，因此，活性炭還能去除水中對陰離子交換劑有害的腐殖酸、富維酸、木質(zhì)磺酸等有機(jī)物質(zhì)，還可去除象余氯一類對陰離子交換劑有害物質(zhì)，從而提高了除鹽水處理能力，防止樹脂被氧化。通常能夠去除63%—86%膠印體物質(zhì)，50%左右的鐵，以及47—60%的有機(jī)物質(zhì)。

4.1.4阻垢加藥裝置  自來水中含有一部分鈣、鎂離子等容易結(jié)垢性的物質(zhì)，此類離子在水中的溶解性相對比較小，而反滲透部分對離子的攔截比較充分，必然會加大濃水側(cè)離子的濃度；從而導(dǎo)致影響整個反滲透膜的進(jìn)水通道。阻垢劑是一種增大難溶解性離子溶解度的一種化學(xué)藥品，通常對鈣、鎂離子的溶解度能增加3倍左右；能很好的調(diào)節(jié)由于濃縮而引起的結(jié)垢總問題。阻垢劑的投加量一般在2-5ppm左右。根據(jù)原水水質(zhì)的總硬試值調(diào)節(jié)加藥量。

4.2  二級反滲透部分

滲透是水從稀溶液一側(cè)通過半透膜向濃溶液一側(cè)自發(fā)流動的過程。半透膜只允許水通過，而阻止溶解固形物(鹽)的通過，見圖 (a)。 濃溶液隨著水的流人而不斷被稀釋。當(dāng)水向濃溶液流動而產(chǎn)生的壓力足夠用于阻止水繼續(xù)凈流入時，滲透處于平衡狀態(tài)，見圖 (b)。平衡時，水從任一邊通過半透膜向另一邊流入的數(shù)量相等，即處于動態(tài)平衡狀態(tài)，而此時壓力p稱為溶液的滲透壓(注意：半透膜一邊是純水，另一邊是鹽溶液)。　　當(dāng)在濃溶液上有外加壓力，且該壓力大于滲透壓時，濃溶液中的水就會通過半透膜流向稀溶液，使得濃溶液的濃度更大，這一過程就是滲透的相反過程，稱為反滲透，見圖 (c)?！　B透是自發(fā)過程，而反滲透則是非自發(fā)過程。反滲透系統(tǒng)正是利用反滲透的原理，將需要處理的高含鹽水用高壓泵加壓，迫使水透過反滲透膜，以達(dá)到脫除鹽份的目的。二級反滲透是對一級反滲透產(chǎn)水的進(jìn)一步提純。

4.2.1保安濾器  為防止水中及管道中的微粒進(jìn)入高壓泵和RO膜組件，特設(shè)置保安濾器作為zui后的預(yù)處理手段。作為保險措施，即使多介質(zhì)機(jī)械濾器過濾不*，也能夠保證反滲透膜不會受到嚴(yán)重污染。保安濾器內(nèi)裝5um的聚丙稀微孔濾器。當(dāng)濾器進(jìn)出囗壓差大于0.05-0.1Mpa時需更換濾芯（由于被過濾的介質(zhì)直接進(jìn)入到微孔濾膜的空隙中，因此很難通過酸堿清洗恢復(fù)通量）。濾器結(jié)構(gòu)能滿足快速更換濾芯的要求。

4.2.2高壓泵  反滲透膜分離推動力是壓力差，因此設(shè)置高壓泵使反滲透的進(jìn)水達(dá)到一定的壓力，讓反滲透過程得以進(jìn)行。即克服滲透壓使水分子透過反滲透膜到淡水層。高壓泵采用變頻器設(shè)置加、減速時間減緩高壓泵啟動時膜的沖擊，變頻器還能進(jìn)一步起到節(jié)約能量的作用；新系統(tǒng)剛運(yùn)行的時候?qū)M(jìn)水的壓力要求比使用一段時間之后對進(jìn)水的壓力要求要低。采用變頻裝置能更好的控制高壓泵的壓力與進(jìn)水流量之前的變化。本系統(tǒng)設(shè)置了進(jìn)水低壓保護(hù)和出水高壓保護(hù)。

4.2.3反滲透本體裝置  反滲透裝置是該項(xiàng)目預(yù)脫鹽的心臟部分，經(jīng)反滲透處理的水能去除絕大部分無機(jī)鹽、有機(jī)物、微生物及細(xì)菌等。

4.2.3.1系統(tǒng)設(shè)備選型  膜組件選用美國陶氏公司BW30-400卷式組件。該組件由三層的薄膜復(fù)合，分別是zui上面的超薄脫鹽層（厚度約為0.2µm聚銑胺材質(zhì)）、中間的聚楓內(nèi)夾層和zui下面的聚酯支撐網(wǎng)層。該組件膜面積400平方英尺，產(chǎn)水通量大，對無機(jī)鹽具有99.5℅的脫除率。壓力膜管選用加拿大海德信公司于卷式RO組件的WAVE 300P-6型壓力膜管，該壓力膜管是增強(qiáng)FRP材質(zhì)，具有抗腐蝕性，耐壓300psi,管內(nèi)壁光滑裝卸方便等特點(diǎn)。每個壓力膜管可安裝6支膜組件。

4.2.3.2反滲透裝置工藝設(shè)計(jì)  整套系統(tǒng)反滲透膜裝置安置在一個機(jī)架上，并配置控制系統(tǒng)，在進(jìn)水水溫25℃時二級反滲透產(chǎn)水量28.0T/H，每根膜組件zui大的回收率15℅計(jì)算，一級反滲透裝置需配膜組件36根， WAVE 300P-6壓力膜管6根；二級反滲透裝置需配膜組件30根，WAVE 300P-6壓力膜管5根；一級反滲透組合排列形式為3-2-1排列，二級反滲透組合排列形式為3-2。反滲透每支壓力膜管產(chǎn)水側(cè)設(shè)有取樣囗，方便取樣。

4.2.3.3自動低壓沖洗裝置  反滲透在運(yùn)行的過程中，濃縮過程和濃差極化將導(dǎo)致膜表面所接觸原水的固含量濃度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于原水的本體濃度。因此配備自動低壓沖洗裝置在停機(jī)后、開機(jī)前對反滲透膜進(jìn)行定時的低壓沖洗，將附于膜表面的少量污染物沖走。沖洗完成后，系統(tǒng)自動恢復(fù)到?jīng)_洗啟動前的狀態(tài)。

4.2.3.4就地儀表配置  反滲透裝置設(shè)置二次儀表顯示裝置，就地顯示產(chǎn)水量、電導(dǎo)率等重要參數(shù)。系統(tǒng)設(shè)置高、低壓保護(hù)開關(guān)，保證反滲透系統(tǒng)安全可靠運(yùn)行。

4.2.4反滲透純水箱  反滲透產(chǎn)品水送入PE材質(zhì)的水箱。該水箱設(shè)置高低液位控制裝置能控制泵的聯(lián)鎖，同時配備空氣呼吸器防止大氣中塵埃顆粒和細(xì)菌進(jìn)入水箱。

4.2.5反滲透化學(xué)清洗裝置  無論預(yù)處理過程多么完善，在*運(yùn)行過程中，反滲透膜面上總會日積月累水中存在的各種污染物。從而使裝置的性能下降，如組件進(jìn)出囗壓差升高、脫鹽率下降、產(chǎn)水量下降，當(dāng)這些變化超過原始值的15%時，就要用化學(xué)藥品進(jìn)行清洗。為此，除日常運(yùn)行中進(jìn)行的低壓沖洗外，還需進(jìn)行定期化學(xué)清洗，有時還需進(jìn)行殺菌處理。

本系統(tǒng)配置的化學(xué)清洗裝置，其組成和流程如下：清洗液水箱——泵——精密濾器——流量計(jì)——反滲透裝置

化學(xué)清洗準(zhǔn)則

          A、裝置的產(chǎn)水量比初次或上一次清洗后下降5～10℅時；

          B、裝置的鹽透過率比初次或上一次清洗后提高一倍時；

          C、裝置各段的壓力差或壓力差的差值為初次或上一次清洗后的1～1.5倍時；

          D、裝置運(yùn)行3-4個月時；

          E、裝置在*停止運(yùn)行前用NaHSO3溶液保護(hù)。

膜污染特征與化學(xué)清潔劑的選擇

表一：污染物類型與裝置性能的變化

表二  污染物種類與化學(xué)清潔劑配方

4.3  EDI部分

4.3.1 UV裝置  紫外光是電磁波譜的一部分，其波長位于100nm到400nm之間。滅菌波長位于200nm到310nm之間的波譜區(qū)。微生物被紫外光滅活是由于光化學(xué)反應(yīng)破壞了其體內(nèi)的核酸物質(zhì)的結(jié)果。這一過程有效的阻止了細(xì)胞和病毒的繁殖從而導(dǎo)致細(xì)胞的死亡。紫外光通過改變細(xì)菌、病毒和其它微生物細(xì)胞的遺傳物質(zhì)（DNA），使其不再繁殖而達(dá)到對水與廢水進(jìn)行消毒的目的。浸沒于水下的燈管產(chǎn)生紫外光，當(dāng)水流流經(jīng)紫外燈管時，其中的微生物受到某*死劑量紫外能的輻射。紫外劑量為所受UV輻射光強(qiáng)與曝光時間的乘積。

4.3.2 EDI裝置   

EDI是連續(xù)電再生除鹽裝置的英文縮寫，是電解、滲析及離子交換相結(jié)合的深度脫鹽裝置，由給水室、濃水室和電極室組成。給水室內(nèi)裝填常規(guī)混合離子交換樹脂，給水室和濃水室之間裝有陽離子交換膜和陰離子交換膜。給水室中的陰（陽）離子在兩端電極作用下不斷通過裝置里的陰（陽）離子膜進(jìn)入濃水室；H2O在直流電能的作用下可分解成H+和OH-，使給水室中的混合離子交換樹脂經(jīng)常處于再生狀態(tài)，因而有深度除鹽能力。因此EDI在通電狀態(tài)下可以不斷地制出純水，其內(nèi)填的離子交換樹脂不用酸堿再生。

運(yùn)用EDI技術(shù)使酸堿污染降低為零，且可降低成本及勞動強(qiáng)度。反滲透產(chǎn)水經(jīng)過EDI裝置深度脫鹽處理后出水電阻率在16.0MΩ.cm（25℃）左右 。          

本系統(tǒng)配置德國西門子公司型號為IP-LMX-45Zzui大處理量為7.5T/H的膜塊共4塊，每個膜塊設(shè)置單獨(dú)的電源。

正常情況下4塊同時工作，每個模塊處理水量為5T/H。為了保障用水安全，每個模塊可以單獨(dú)關(guān)閉。

本系統(tǒng)設(shè)置了水流保護(hù)開關(guān)，防止干燒導(dǎo)致EDI損壞。

4.3.3超純水箱  EDI產(chǎn)品水送入水箱。該水箱設(shè)置高低液位控制裝置能控制泵的聯(lián)鎖，同時配備氮封裝置防止大氣中塵埃顆粒和細(xì)菌進(jìn)入水箱。

4.4  18M供水部分  EDI產(chǎn)水電阻率zui高在17 MΩ.cm左右，為達(dá)到用水標(biāo)準(zhǔn)，在終端增加了精混床用以提升水質(zhì)。

4.4.1 TOC脫除器  TOC脫除器采用的是185nm的紫外光，它能夠打開將有機(jī)物分子結(jié)合在一起的化合鍵。因此，這一波長的紫外光能夠破壞水中的有機(jī)化合物、臭氧、氯和氯胺。破壞產(chǎn)生后產(chǎn)生的物質(zhì)用后續(xù)的精混床脫除。同時，它也具有一定的殺菌作用。

4.4.2精混床  精混床是以陽、陰兩種離子交換樹脂按一定比例混合后裝填于同一交換器中，相當(dāng)于一個多級的除鹽系統(tǒng)。其中經(jīng)H型強(qiáng)酸性陽樹脂與水中陽離子交換后形成的H+，和經(jīng)OH型強(qiáng)堿性陰樹脂與水中陰離子交換后形成的OH-相結(jié)合，形成電離度很小的水，使交換過程中形成的H+和OH-不能積累，從而消除了反離子對交換過程的干擾，使離子交換反應(yīng)*,因此，混床出水水質(zhì)好。

（一）、氫型陽離子交換樹脂的交換反應(yīng)：

A、與碳酸鹽硬度的交換反應(yīng)：

Ca(HCO3)2 + 2RH → R2Ca + 2HO2 + 2CO2↑

Mg(HCO3)2 + 2RH → R2Mg + 2HO2 + 2CO2↑

 B、與非碳酸鹽硬度的交換反應(yīng)：

CaSO 4 + 2RH → R2Ca + H2SO4

CaCl2 + 2RH→ R2Ca + 2HCl

MgSO 4 + 2RH → R2Mg + H2SO4

MgCl2 + 2RH → R2Mg + 2HCl

C、與鈉鹽的交換反應(yīng)：

NaHCO 3 + 2RH → RNa + H2O + CO2↑

NaCl + RH → RNa + HCl

NaSO 4 + 2RH → RNa + H2SO4

Na2SiO 3 + 2RH → 2RNa + H2SiO3

（二）、氫氧型陰離子交換樹脂的交換反應(yīng)：

Cl- + ROH → RCl + OH-

HSO 4- + ROH → RHSO 4 + OH-

SO4- + ROH → R2SO4 + 2OH-

HCO3- + ROH → RHCO3 + OH-

HSiO3- + ROH → RHSiO3 + OH-

精混床樹脂不同于普通混床的樹脂，陽離子交換樹脂氫化率及陰離子交換樹脂氫氧化率幾乎達(dá)到了*，并按比例充分混合。因此該樹脂無法再生，不過由于進(jìn)水含鹽量低，一般可用1年左右時間。

4.4.3  終端膜濾器  0.22μ過濾器是用于阻擋純水中微小顆粒特，以滿足使用點(diǎn)對產(chǎn)品水中微粒的要求。設(shè)置0.22μ精密濾器進(jìn)行深度處理，除去水中固體顆粒物，濾芯過濾精度（孔徑）0.22μm，可有效除去水中懸浮顆粒，使用的濾芯具有大量固定不規(guī)則孔徑（公稱孔徑0.22μm），屬微孔膜過濾，因膜孔徑固定，可保證過濾的精度和可靠性。濾器內(nèi)裝20支40英寸長，0.22μm的聚丙稀微孔濾芯，出力為25 T/H。濾器結(jié)構(gòu)能滿足快速更換濾芯的要求。

5.  工藝控制設(shè)計(jì)說明

5.1 控制系統(tǒng)概述

根據(jù)本系統(tǒng)的規(guī)模及設(shè)備分布的具體情況，決定采用目前工業(yè)過程控制中zui常用的集中分散型控制系統(tǒng)。它又稱分級控制系統(tǒng)，是一種分布式控制系統(tǒng)，具有控制分散，信息集中管理的特點(diǎn)。本系統(tǒng)分上位操作站，下位控制站兩級。上位操作站由一臺主控制箱作為監(jiān)控站。下位控制站的設(shè)置是根據(jù)優(yōu)化控制，合理布局的原則視具體情況而定的，同時為方便系統(tǒng)在實(shí)施階段或運(yùn)行階段進(jìn)行必須的調(diào)整及擴(kuò)展，控制站考慮了一定的余量。

5.2 控制系統(tǒng)功能簡介

5.2.1 上位操作站 主要完成系統(tǒng)中各操作站的監(jiān)視參數(shù)設(shè)置,設(shè)備運(yùn)行等操作功能，具有清晰的生產(chǎn)設(shè)備運(yùn)行情況，可在流程圖上對現(xiàn)場設(shè)備進(jìn)行遠(yuǎn)方手動操作，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程控制。生產(chǎn)過程的電阻率及電導(dǎo)率可以在線顯示。

5.2.2  可編程控制器PLC 各控制站都采用以微處理器為基礎(chǔ)的可編程控制器PLC，它具有高可靠性，編程方便，易于使用，與其它裝置配置方便等特點(diǎn)，各生產(chǎn)過程的程序、數(shù)據(jù)都存儲PLC的CPU里獨(dú)立運(yùn)行，工作人員可通過計(jì)算機(jī)操作站來監(jiān)視其運(yùn)行。PLC具有很強(qiáng)的運(yùn)算功能，能完成復(fù)雜的操作，可配合操作員通過對整個生產(chǎn)過程的運(yùn)行參數(shù)和狀態(tài)進(jìn)行集中監(jiān)控，以實(shí)現(xiàn)對整個系統(tǒng)的程控，運(yùn)行，遠(yuǎn)操等過程。各控制執(zhí)行機(jī)構(gòu)均配制行程開關(guān)。

5.2.3 電導(dǎo)率、電阻率等顯示  現(xiàn)場配備電導(dǎo)率儀表，電阻率儀表，以便重要電導(dǎo)率、電阻率等指標(biāo)能夠在水處理車間和控制室同時顯示。

5.3系統(tǒng)水處理控制介紹  依據(jù)水處理的工藝過程，本控制系統(tǒng)對各個工藝單元進(jìn)行直接協(xié)調(diào)、管理、控制。系統(tǒng)監(jiān)控對象由以下單元組成：

5.3.1 預(yù)處理部分控制  預(yù)處理部分以原水箱為連續(xù)運(yùn)行控制點(diǎn)。當(dāng)原水箱液位處于較低限位置,低液位開關(guān)向PLC輸入開關(guān)信號, PLC即控制原水進(jìn)水電磁閥開啟；當(dāng)原水箱液位處于低限位置,低液位開關(guān)向PLC輸入開關(guān)信號, PLC即控制預(yù)處理部分停止；當(dāng)水箱液位處于高限位置,高液位開關(guān)向PLC輸入開關(guān)量信號, 原水進(jìn)水電磁閥關(guān)閉。

5.3.1.1  機(jī)械濾器  濾器的運(yùn)行、反洗步驟由PLC控制的氣動閥門實(shí)現(xiàn)，當(dāng)運(yùn)行時長大于設(shè)定值，由PLC控制氣動閥門按順序進(jìn)行自動反洗操作，反洗結(jié)束后投入運(yùn)行。過濾器各閥門的運(yùn)行狀態(tài)可以在顯示器上顯示。只有在反滲水箱液位達(dá)到高位時，濾料清洗才能開始，這樣可以保證后續(xù)反滲透裝置的連續(xù)供水。   

5.3.1.2  活性炭濾器  活性炭濾器設(shè)置運(yùn)行及反洗步驟由PLC控制的氣動閥門自動操作，根據(jù)運(yùn)行時間參數(shù)由PLC控制氣動閥門按順序進(jìn)行自動反洗操作，反洗結(jié)束后投入運(yùn)行。各活性碳濾器閥門的運(yùn)行狀態(tài)可以在顯示器上顯示。只有在反滲水箱液位達(dá)到高位時，濾料清洗才能開始，這樣可以保證后續(xù)反滲透裝置的連續(xù)供水。

5.3.2 反滲透部分

5.3.2.1.自動運(yùn)行控制：

反滲透自動運(yùn)行通過反滲透純水箱的液位來進(jìn)行。

當(dāng)反滲透中間水箱液位處于較低限位置,較低液位開關(guān)向PLC輸入開關(guān)信號, PLC即控制高壓泵開始運(yùn)行；當(dāng)水箱液位處于高限位置,高液位開關(guān)向PLC輸入開關(guān)量信號, 反滲透高壓泵停止運(yùn)行，輸入的信號將在CRT上顯示。

5.3.2.2.反滲透的控制配置

反滲透進(jìn)水側(cè)設(shè)有電導(dǎo)率檢測儀表，將電導(dǎo)率值的模擬量信號輸入PLC，并在顯示器上顯示參數(shù)。反滲透產(chǎn)水側(cè)設(shè)有電導(dǎo)率檢測儀，將產(chǎn)水電導(dǎo)率值的模擬量信號輸入PLC，并在顯示器上顯示參數(shù)。

反滲透高壓泵進(jìn)水設(shè)置低壓保護(hù)開關(guān)，當(dāng)壓力小于0.1-0.15Mpa時，控制高壓泵停止運(yùn)行，反滲透裝置進(jìn)入低壓沖洗狀態(tài)，并在顯示器上顯示報(bào)警。當(dāng)壓力大于0.1-0.15時高壓泵即起動，反滲透裝置投入運(yùn)行。    

反滲透高壓泵出水側(cè)管路設(shè)壓力開關(guān)，當(dāng)壓力大于某一設(shè)定值時，PLC輸出開關(guān)信號，停止高壓泵運(yùn)行，并在顯示器上顯示、報(bào)警。

反滲透濃水側(cè)設(shè)一電動快沖洗閥門，在高壓泵運(yùn)行前和高壓泵停止后，接受PLC輸出的開關(guān)量信號，自動進(jìn)入低壓沖洗狀態(tài)。

5.3.4 EDI除鹽系統(tǒng)

EDI連續(xù)脫鹽系統(tǒng)的由PLC控制實(shí)現(xiàn)自動運(yùn)行，當(dāng)?shù)馑湟何坏陀谥虚g液位時，EDI系統(tǒng)啟動。當(dāng)?shù)馑湟何贿_(dá)到高液位時，EDI系統(tǒng)停止。

為防止EDI系統(tǒng)干燒，系統(tǒng)設(shè)置了水流保護(hù)，當(dāng)無水流通過時，系統(tǒng)自動切斷相應(yīng)電源。

UV裝置的開啟關(guān)閉跟隨相應(yīng)EDI系統(tǒng)。

純水箱內(nèi)裝有壓力微動開關(guān)，當(dāng)水箱內(nèi)出現(xiàn)負(fù)壓時，系統(tǒng)會立即開啟安全閥，并報(bào)警和提示報(bào)警的原因。

5.4 主要控制設(shè)備

1、系統(tǒng)PLC選用德國西門子S7系列可編程控制器，各類I/O包含10%備用點(diǎn)。

2、流量計(jì)選用浮子流量計(jì)。

3、壓力開關(guān)選用中國臺灣凡宜進(jìn)口產(chǎn)品或相當(dāng)產(chǎn)品。

4、電導(dǎo)率、電阻率儀選用美國+GF+或相當(dāng)產(chǎn)品。

5.5  20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)設(shè)備布置

控制臺布置在*水站控制室內(nèi)。

車間內(nèi)電纜采用橋架架空或穿線管，控制室內(nèi)電纜敷設(shè)走電纜溝

氣動閥的氣源通過環(huán)繞車間的氣源母管引到電磁閥柜，從電-氣轉(zhuǎn)換柜到氣動 閥的氣管路采用增強(qiáng)軟管。

需要完整的20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)方案，20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)工藝流程圖，20噸/時二級反滲透+EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)平面布置圖請。

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