污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線半導(dǎo)體清洗設(shè)備、液晶清洗設(shè)備、太陽(yáng)能清洗設(shè)備
設(shè)備主要用于單、多晶硅太陽(yáng)能電池片生產(chǎn),擴(kuò)散前的絨面腐蝕和清洗。工藝過(guò)程為:上料→HF+HNO3腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?噴淋→KOH腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?噴淋→HCl腐蝕→QDR+氮?dú)夤呐?噴淋→下料→離心機(jī)甩干離線,全程PLC控制,觸摸屏操作。整體采用德國(guó)10mm (5MM)厚NPP板或PP板雕刻后焊接組合加工而成,槽體配置可實(shí)現(xiàn)腐蝕或后殘留在片子上的化學(xué)液及污染顆粒的沖洗祛除功能。采用龍門(mén)式機(jī)械手方式移動(dòng),其工藝時(shí)間可以自行調(diào)節(jié),酸堿槽具有自動(dòng)補(bǔ)液裝置,可實(shí)現(xiàn)無(wú)間斷生產(chǎn)。能顯示溫度曲線、濃度變化曲線,及各個(gè)工位的工作狀態(tài)。具有設(shè)備報(bào)警說(shuō)明,報(bào)警歷史查詢功能。對(duì)清洗用純水有電阻率監(jiān)測(cè)裝置,能存儲(chǔ)10個(gè)以上工藝方案,適用于投產(chǎn)厚度為160±30~200±30微米的硅片,硅片產(chǎn)能不低于1200片/小時(shí),設(shè)備開(kāi)工率>92﹪,碎片率≤3‰。設(shè)備由安裝在槽體底部的快排閥、DI注入孔(包括氮?dú)夤呐荩┘绊敳孔笥覂蓚?cè)的DI噴嘴實(shí)現(xiàn)槽體的快速注入與排放。快排沖洗槽(QDR)的工作過(guò)程由獨(dú)立K200型控制器保證。它包括工藝時(shí)間、沖洗次數(shù)設(shè)置、工作完成提示以及過(guò)程中的故障報(bào)警、狀態(tài)提示等功能。設(shè)備性能穩(wěn)定可靠,廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能電池行業(yè)。非標(biāo)規(guī)格,具體規(guī)格依客戶工藝確定。
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