PS-06,PS-08,PS-10,PS-20,PS-25,PS-30,PS-40,PS-50,PS-60,PS-70,PS-80,PS-100超聲波清洗機
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蘇州芯矽電子科技有限公司
產(chǎn)品型號
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地蘇州市
聯(lián)系方式:芯矽電子查看聯(lián)系方式
更新時間:2025-06-24 14:23:22瀏覽次數(shù):29次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線槽數(shù) | 其他 | 超聲清洗頻率 | 定制 |
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工作方式 | 定制 | 功率 | 定制 |
加工定制 | 是 | 類型 | 一體式 |
清洗溫度 | 定制℃ | 適用領域 | 電子行業(yè) |
外形尺寸 | 定制cm | 用途 | 工業(yè)用 |
?濕法腐蝕臺6寸是6英寸晶圓處理的關鍵設備,其技術迭代直接關聯(lián)產(chǎn)品良率與成本控制。未來,設備將向更高精度、智能化、環(huán)?;较虬l(fā)展,同時推動國產(chǎn)設備在特色工藝領域的滲透率提升。
濕法腐蝕臺6寸是專為6英寸晶圓設計的濕法腐蝕處理設備,廣泛應用于半導體制造、科研實驗等領域。以下是其技術特點與核心解析:
一、核心功能與工藝原理
腐蝕工藝
化學腐蝕:通過酸性或堿性溶液(如H?O?/H?PO?、HF/HNO?等)對6英寸晶圓表面進行選擇性腐蝕,去除氧化層、殘留薄膜或污染物。
均勻性控制:采用旋轉(zhuǎn)噴淋(如10-100rpm可調(diào))或超聲波輔助,確保腐蝕厚度一致性(CV值<5%)。
溫度與時間調(diào)控:恒溫槽體(精度±0.5℃)結合可編程計時器,精確控制腐蝕速率。
關鍵應用
去除光刻膠殘留、氧化硅(SiO?)薄膜或金屬污染層。
制備特定表面粗糙度(如納米級紋理)或圖形化腐蝕(需掩膜配合)。
科研領域:半導體材料研究、微機電系統(tǒng)(MEMS)器件加工等。
二、設備結構與技術優(yōu)勢
模塊化設計
腐蝕槽:采用PFA、PTFE或石英材質(zhì),耐強酸強堿腐蝕,支持單槽或多槽聯(lián)動(如清洗→腐蝕→漂洗)。
傳輸系統(tǒng):機械手或真空吸附臂實現(xiàn)6英寸晶圓精準傳輸,定位精度±0.1mm,支持倒片功能。
干燥單元:熱氮烘干或IPA(異丙醇)甩干,防止水漬殘留。
技術亮點
均勻性保障:噴淋頭360°旋轉(zhuǎn)+晶圓自轉(zhuǎn),解決邊緣腐蝕不均問題。
污染防控:槽體溢流設計+顆粒過濾器(0.1μm級),減少二次污染。
數(shù)據(jù)追溯:集成MES系統(tǒng),記錄每片晶圓的腐蝕參數(shù)(時間、溫度、液流量等),支持良率分析。
三、選型要點
腐蝕精度:根據(jù)工藝需求選擇CV值(如<3%或<5%)。
產(chǎn)能匹配:單機每小時處理量(如40-80片/小時)需符合產(chǎn)線節(jié)拍。
維護成本:優(yōu)先選擇耗材(如密封圈、O型圈)易更換、廢液處理模塊集成度高的設備
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商鋪:http://www.hg1112.cn/st724798/
主營產(chǎn)品:專注半導體濕法設備制造公司,主要提供實驗室研發(fā)級到全自動量產(chǎn)級槽式清洗機,單片清洗機,高純化學品/研磨液供應回收系統(tǒng)及工程
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