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蘇州芯矽電子科技有限公司


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去蠟濕法清洗機

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參   考   價: ￥ 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式：芯矽電子查看聯(lián)系方式

更新時間：2025-05-27 15:00:40瀏覽次數(shù)：71次

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經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：71條

所在地區(qū)：江蘇蘇州市

聯(lián)系人：芯矽電子 （客服）

產(chǎn)品簡介
槽數(shù) 其他 超聲清洗頻率 定制
工作方式 定制 功率 定制
加工定制 是 類型 其他
清洗溫度 定制℃ 適用領(lǐng)域 電子行業(yè)
外形尺寸 定制cm 用途 工業(yè)用

去蠟濕法清洗機是半導(dǎo)體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物（如光刻膠、助劑殘留）的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)濕法與物理輔助技術(shù)結(jié)合實現(xiàn)精密清潔。其核心采用有機溶劑或酸堿配方溶解蠟層，并可選配兆聲波空化效應(yīng)剝離頑固殘留，避免機械接觸損傷。設(shè)備支持單片或多片自動化處理（兼容4-12英寸晶圓），集成溫控系統(tǒng)（±0.1℃）、噴淋/浸泡模式及廢液回收裝置，確保清洗均勻性（±1.5%）與環(huán)保性。

詳細(xì)介紹

去蠟濕法清洗機是半導(dǎo)體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物（如光刻膠、助劑殘留）的關(guān)鍵設(shè)備，通過化學(xué)濕法與物理輔助技術(shù)結(jié)合實現(xiàn)精密清潔。以下是對該產(chǎn)品的詳細(xì)介紹：

核心功能與技術(shù)特點

多模式清洗技術(shù)

化學(xué)濕法溶解：采用有機溶劑（如丙酮、IPA）或酸堿配方（如緩沖氧化物刻蝕液BOE）溶解蠟層，兼顧去除有機物、金屬污染及氧化膜。

物理輔助手段：集成兆聲波（MHz級高頻聲波）或超聲波空化效應(yīng)，通過氣泡爆破釋放能量剝離頑固殘留，避免機械接觸損傷晶圓表面。

高精度控制與均勻性

溫控系統(tǒng)：支持±0.1℃溫度調(diào)節(jié)，確保化學(xué)反應(yīng)速率穩(wěn)定，避免局部過蝕或清洗不均13。

流體動力學(xué)設(shè)計：噴淋臂對稱分布，配合循環(huán)泵和勻流板，減少陰影效應(yīng)，實現(xiàn)晶圓表面清潔度一致性（±1.5%）。

自動化與智能化

全自動傳輸：非接觸式機械臂或氣浮承載臺，兼容4-12英寸晶圓，支持單片或多片連續(xù)處理，提升產(chǎn)能。

AI參數(shù)優(yōu)化：根據(jù)污染物類型（顆粒、有機物、金屬）自動調(diào)節(jié)清洗時間、頻率及溶液濃度，生成SPC報告并支持MES系統(tǒng)對接。

環(huán)保與安全設(shè)計

廢液處理：封閉式循環(huán)系統(tǒng)實現(xiàn)化學(xué)液回收率＞90%，中和裝置符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)，降低危廢成本。

安全防護(hù)：配備泄漏檢測、氮氣保護(hù)及緊急制動按鈕，防止化學(xué)品泄漏風(fēng)險。

應(yīng)用場景與優(yōu)勢

核心用途

光刻膠剝離后清洗、CMP后磨料去除、TSV硅通孔臨時鍵合劑殘留處理等場景，適用于SiC襯底片、MEMS器件及封裝工藝。

技術(shù)優(yōu)勢

高效清潔：顆粒去除率≥97%（≥0.06μm），金屬污染控制至＜0.01ppb，滿足3nm以下制程需求。

低損傷設(shè)計：兆聲波替代傳統(tǒng)刷洗，避免物理應(yīng)力；模塊化槽體支持RCA、DHF等工藝擴(kuò)展。

綠色節(jié)能：待機功耗＜1kW，超臨界CO?干燥技術(shù)替代IPA，減少碳足跡。

去蠟濕法清洗機通過化學(xué)溶解、物理空化及智能化控制，實現(xiàn)原子級潔凈度與高效生產(chǎn)，是制程（如3nm以下節(jié)點）的設(shè)備。未來趨勢包括AI驅(qū)動的參數(shù)優(yōu)化、無氟環(huán)保工藝及納米級清洗技術(shù)，持續(xù)提升良率與可持續(xù)性。

關(guān)鍵詞：循環(huán)泵

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