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去蠟濕法清洗機

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參   考   價: 10000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地蘇州市

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更新時間:2025-05-27 15:00:40瀏覽次數:41次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:38條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯系人:芯矽電子 (客服)

產品簡介
槽數 其他 超聲清洗頻率 定制
工作方式 定制 功率 定制
加工定制 類型 其他
清洗溫度 定制℃ 適用領域 電子行業(yè)
外形尺寸 定制cm 用途 工業(yè)用

去蠟濕法清洗機是半導體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物(如光刻膠、助劑殘留)的關鍵設備,通過化學濕法與物理輔助技術結合實現精密清潔。其核心采用有機溶劑或酸堿配方溶解蠟層,并可選配兆聲波空化效應剝離頑固殘留,避免機械接觸損傷。設備支持單片或多片自動化處理(兼容4-12英寸晶圓),集成溫控系統(±0.1℃)、噴淋/浸泡模式及廢液回收裝置,確保清洗均勻性(±1.5%)與環(huán)保性。

詳細介紹

去蠟濕法清洗機是半導體制造中用于高效去除晶圓表面蠟狀污染物(如光刻膠、助劑殘留)的關鍵設備,通過化學濕法與物理輔助技術結合實現精密清潔。以下是對該產品的詳細介紹:

核心功能與技術特點

多模式清洗技術

化學濕法溶解:采用有機溶劑(如丙酮、IPA)或酸堿配方(如緩沖氧化物刻蝕液BOE)溶解蠟層,兼顧去除有機物、金屬污染及氧化膜。

物理輔助手段:集成兆聲波(MHz級高頻聲波)或超聲波空化效應,通過氣泡爆破釋放能量剝離頑固殘留,避免機械接觸損傷晶圓表面。

高精度控制與均勻性

溫控系統:支持±0.1℃溫度調節(jié),確?;瘜W反應速率穩(wěn)定,避免局部過蝕或清洗不均13。

流體動力學設計:噴淋臂對稱分布,配合循環(huán)泵和勻流板,減少陰影效應,實現晶圓表面清潔度一致性(±1.5%)。

自動化與智能化

全自動傳輸:非接觸式機械臂或氣浮承載臺,兼容4-12英寸晶圓,支持單片或多片連續(xù)處理,提升產能。

AI參數優(yōu)化:根據污染物類型(顆粒、有機物、金屬)自動調節(jié)清洗時間、頻率及溶液濃度,生成SPC報告并支持MES系統對接。

環(huán)保與安全設計

廢液處理:封閉式循環(huán)系統實現化學液回收率>90%,中和裝置符合環(huán)保標準,降低危廢成本。

安全防護:配備泄漏檢測、氮氣保護及緊急制動按鈕,防止化學品泄漏風險。

應用場景與優(yōu)勢

核心用途

光刻膠剝離后清洗、CMP后磨料去除、TSV硅通孔臨時鍵合劑殘留處理等場景,適用于SiC襯底片、MEMS器件及封裝工藝。

技術優(yōu)勢

高效清潔:顆粒去除率≥97%(≥0.06μm),金屬污染控制至<0.01ppb,滿足3nm以下制程需求。

低損傷設計:兆聲波替代傳統刷洗,避免物理應力;模塊化槽體支持RCA、DHF等工藝擴展。

綠色節(jié)能:待機功耗<1kW,超臨界CO?干燥技術替代IPA,減少碳足跡。

去蠟濕法清洗機通過化學溶解、物理空化及智能化控制,實現原子級潔凈度與高效生產,是制程(如3nm以下節(jié)點)的設備。未來趨勢包括AI驅動的參數優(yōu)化、無氟環(huán)保工藝及納米級清洗技術,持續(xù)提升良率與可持續(xù)性。

關鍵詞:循環(huán)泵

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