簡要描述：鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結構相得益彰。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發(fā)領域。

詳細介紹

鄭科探小型蒸鍍儀

-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源；
- 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；
- 泵：前級干泵，分子泵；
- Load Lock樣品傳輸腔室：手動或自動傳輸，高真空，支持多種樣品襯底(選配)；
- 工藝控制：PC/PLC機制的自動控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲存；

- 襯底固定：單襯底固定，客戶化襯底固定方式；

- 襯底夾具：加熱，冷卻，偏置，旋轉等；

- 保護樣品：配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；

以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖：

以下是不同真空度不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜 115A 100秒機械泵

115A 100秒分子泵抽12分鐘 115A 120秒分子泵抽20分鐘

真空度越高越不易氧化越接近金屬本色

鄭科探小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料

控制方式	7寸人機界面手動自動模式切換控制
加熱方式	數(shù)字式功率調整器
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1200W
輸出電壓電流	電壓≤12V 電流≤120A
真空度	機械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤10^-3Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺	可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速	8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離	70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)	≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型	鎢絲藍帶坩堝鎢絲藍鎢舟碳繩
預留真空接口	KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展	機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）