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SRS-400型多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 定制科研實(shí)驗(yàn)全自動濺射PVD系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡介

SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能

詳細(xì)介紹

SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實(shí)現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應(yīng)膜濺射功能，可沉積金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜層，非常適合科研實(shí)驗(yàn)或新材料研發(fā)使用，適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。

主要特點(diǎn)：

多膜系沉積功能，可濺射絕大多數(shù)膜層
DC/RF濺射電源可以使多種膜系隨意切換
大抽速真空系統(tǒng)即插即用
多靶共鍍功能滿足多層多膜系混鍍要求
全自動壓力控制，更利于沉積的均勻性
預(yù)設(shè)參數(shù)全自動成膜過程無需人為干預(yù)

應(yīng)用領(lǐng)域：

金屬和介質(zhì)膜
薄膜傳感器的制造
光學(xué)元件
納米與微電子
太陽能電池

主要配置：

圓筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm
500L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵組合
全量程B-A復(fù)合真空規(guī)
三組2英寸磁控濺射靶
公自轉(zhuǎn)陽級基片掛架，更利于大片沉積的均勻性保證。
2DC+1RF濺射電源
VAT全自動壓控閘閥
石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)用于實(shí)時(shí)厚度測量（1 nm精度）
精密氣體質(zhì)量流量計(jì)（MFC）
基板600°C短波紅外可調(diào)加熱器
全自動腔體上蓋開啟裝置
自動PLC控制系統(tǒng)可提供手動調(diào)試模式
10英寸工控觸控屏，操作簡單易用

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖如下：

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技術(shù)指標(biāo)	可選配置和增加配件
三組磁控濺射靶全自動沉積	1200L/s渦輪分子泵系統(tǒng)或低溫泵系統(tǒng)
自動記錄并生成沉積薄膜參數(shù)圖，USB端口數(shù)據(jù)傳輸?shù)絇C	DC PLUS電源，用于化合物共射鍍膜
自動基板公轉(zhuǎn)控制	石英晶體膜厚控制
系統(tǒng)壓力自動控制濺射壓力	備用腔室內(nèi)膽
2路MFC布?xì)庀到y(tǒng)	電阻熱主蒸發(fā)系統(tǒng)
極限真空7.0E-7torr(700L/s)	射頻離子輔助沉積
1RF和2DC電源可三靶共濺	射頻等離子基板清洗
電源規(guī)格：380V – 50/60 HZ-35A	樣品基板公自轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)
尺寸：高125cm×寬75cm×深65cm	多路反應(yīng)氣體MFC
質(zhì)量：?155KG	腔體密封套件