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半導(dǎo)體級(jí)濺射光學(xué)鍍膜機(jī)

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Semicon-gradeMagnetronSputteringOpticalCoatingMachine半導(dǎo)體級(jí)濺射光學(xué)鍍膜機(jī)設(shè)備模塊化設(shè)計(jì)

詳細(xì)介紹

Semicon-grade Magnetron Sputtering Optical Coating Machine 半導(dǎo)體級(jí)濺射光學(xué)鍍膜機(jī)

設(shè)備模塊化設(shè)計(jì),可結(jié)合等離子清洗(Plasma-clean)單元,磁控濺射(SPT)單元,等離子增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)(PECVD)單元,原子層沉積(ALD)單元,以及等離子化學(xué)反應(yīng)刻蝕(RIE)單元,拓展成簇式微納加工中心,涵蓋半導(dǎo)體微納結(jié)構(gòu)加工的基材清洗、薄膜沉積(含超薄薄膜)和圖案化刻蝕整套工序。滿足嚴(yán)格的薄膜沉積均勻性規(guī)格,減少了高應(yīng)力薄膜缺陷,提高產(chǎn)量而降低成本。

采用ICP輔助磁控濺射的光學(xué) 膜層低吸收和低應(yīng)力,加工各類帶通膜和截止膜,如人臉識(shí)別(Face Id),中遠(yuǎn)紅外高透膜;磁控濺射各類金屬Cu,Al,Cr,Au,Ag,SUS等,工藝開(kāi)發(fā)改善深孔鍍膜,鍍膜層具有優(yōu)異的臺(tái)階覆蓋性能,應(yīng)用于MEMS芯片封裝。


優(yōu)勢(shì):

?保證了高精密光學(xué)器件的高通量和可靠的批量生產(chǎn)
?保持了性能優(yōu)異的薄膜特性,例如均勻性,熱穩(wěn)定性和不吸潮性
?滿足消費(fèi)類電子產(chǎn)品,汽車(chē)傳感器和電信配件中的濾光片專有涂層規(guī)格的能力
?新穎的濺射配置與雙旋轉(zhuǎn)磁控管的結(jié)合提供了的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),例如過(guò)程穩(wěn)定性,的顆粒數(shù),最小的維修時(shí)間和擁有成本
?采用了載體系統(tǒng),其生產(chǎn)靈活性使其生產(chǎn)率提高了百分之五十
?配備用于沉積和薄膜工藝監(jiān)控的原位單色或?qū)拵Ч鈱W(xué)監(jiān)控系統(tǒng),即使對(duì)于數(shù)百層的疊層設(shè)計(jì),也可以避免頻繁的校準(zhǔn)和測(cè)試運(yùn)行
?可以沉積具有幾乎沒(méi)有固有粗糙度和低至±0.2%的均勻性的層的密且無(wú)位移的層

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCMS系列半導(dǎo)體級(jí)磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)包括以下關(guān)鍵功能:
  • 有效

    基于PC的有效自動(dòng)系統(tǒng)控制,用于涂層過(guò)程

  • 優(yōu)異

    優(yōu)異的均勻性和的生產(chǎn)良率

  • 精準(zhǔn)

    精確監(jiān)控膜厚

  • 高效

    出色的濺鍍技術(shù)和很強(qiáng)的量產(chǎn)能力

  • 匯成自主研發(fā)離子源

  • 簡(jiǎn)單

    易于操作和維護(hù)

  • HCSMS
  • HCSMS簇式

特點(diǎn):

兼容4~12英寸的自動(dòng)化基材傳輸系統(tǒng)
清潔環(huán)境沉積薄膜點(diǎn)缺陷少
沉積工藝穩(wěn)定,薄膜具有高重復(fù)性
工藝過(guò)程中實(shí)時(shí)基于基材直接監(jiān)控
快速換靶,維護(hù)保養(yǎng)便捷

Application cases.

應(yīng)用案例

特點(diǎn):

*過(guò)程控制技術(shù)APCS:光學(xué)監(jiān)控、原位溫度以及薄膜應(yīng)力實(shí)時(shí)測(cè)量
SPT單元直流/直流脈沖濺射金屬膜用于晶圓封裝,中頻/射頻反應(yīng)濺射氧化物/氮化物膜用于高精密光學(xué)器件ALD單元沉積超薄薄膜用于半導(dǎo)體器件的阻隔層
RIE單元借助光刻膠圖案化刻蝕薄膜形成微電路

Application cases.

應(yīng)用案例

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