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Semicon-grade Magnetron Sputtering Optical Coating Machine 半導(dǎo)體級(jí)濺射光學(xué)鍍膜機(jī)
設(shè)備模塊化設(shè)計(jì)，可結(jié)合等離子清洗（Plasma-clean）單元，磁控濺射（SPT）單元，等離子增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng)（PECVD）單元，原子層沉積（ALD）單元，以及等離子化學(xué)反應(yīng)刻蝕（RIE）單元，拓展成簇式微納加工中心，涵蓋半導(dǎo)體微納結(jié)構(gòu)加工的基材清洗、薄膜沉積（含超薄薄膜）和圖案化刻蝕整套工序。滿足嚴(yán)格的薄膜沉積均勻性規(guī)格，減少了高應(yīng)力薄膜缺陷，提高產(chǎn)量而降低成本。
采用ICP輔助磁控濺射的光學(xué) 膜層低吸收和低應(yīng)力，加工各類帶通膜和截止膜，如人臉識(shí)別（Face Id），中遠(yuǎn)紅外高透膜；磁控濺射各類金屬Cu，Al，Cr，Au，Ag，SUS等，工藝開(kāi)發(fā)改善深孔鍍膜，鍍膜層具有優(yōu)異的臺(tái)階覆蓋性能，應(yīng)用于MEMS芯片封裝。
優(yōu)勢(shì)：
?保證了高精密光學(xué)器件的高通量和可靠的批量生產(chǎn)
?保持了性能優(yōu)異的薄膜特性，例如均勻性，熱穩(wěn)定性和不吸潮性
?滿足消費(fèi)類電子產(chǎn)品，汽車(chē)傳感器和電信配件中的濾光片專有涂層規(guī)格的能力
?新穎的濺射配置與雙旋轉(zhuǎn)磁控管的結(jié)合提供了的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，例如過(guò)程穩(wěn)定性，的顆粒數(shù)，最小的維修時(shí)間和擁有成本
?采用了載體系統(tǒng)，其生產(chǎn)靈活性使其生產(chǎn)率提高了百分之五十
?配備用于沉積和薄膜工藝監(jiān)控的原位單色或?qū)拵Ч鈱W(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，即使對(duì)于數(shù)百層的疊層設(shè)計(jì)，也可以避免頻繁的校準(zhǔn)和測(cè)試運(yùn)行
?可以沉積具有幾乎沒(méi)有固有粗糙度和低至±0.2％的均勻性的層的密且無(wú)位移的層
