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磁控濺射鍍膜機

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更新時間：2023-06-08 18:15:43瀏覽次數(shù)：211次

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產(chǎn)品簡介

設(shè)備介紹中頻磁控真空鍍膜機主要用于在基片上鍍制金屬膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導(dǎo)膜、磁性膜、光學(xué)膜等各種特殊性能的薄膜

詳細(xì)介紹

設(shè)備介紹

中頻磁控真空鍍膜機主要用于在基片上鍍制金屬膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、硬質(zhì)膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導(dǎo)膜、磁性膜、光學(xué)膜等各種特殊性能的薄膜。ZY-1212鐘表裝飾鍍膜機結(jié)合了離子鍍膜與磁控濺射的各種優(yōu)勢，所鍍膜層光滑、上色均勻、亮度好、附著力強，非常適合在表盤、表帶等產(chǎn)品表面鍍制各種顏色和厚度的高質(zhì)量的耐磨裝飾膜層。

設(shè)備特點

膜厚可控性和重復(fù)性好。能夠輕松鍍制預(yù)定厚度的薄膜，并且可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層。

薄膜與基片的附著力強。

可制備特殊材料的薄膜?？梢允褂貌煌牟牧贤瑫r濺射制備混合膜、化合膜。

電氣控制系統(tǒng)可手動/半自動、PLC

設(shè)備參數(shù)

爐體尺寸	φ1200×H1200
有效空間	φ850×H900
極限壓力	5.0×10^-4Pa
抽氣時間	大氣到4X10^-3 <20分鐘
真空系統(tǒng)	分子泵、羅茨泵、旋片泵
電源類型	直流逆變電源、脈沖偏壓電源、中頻磁控電源、直流磁控電源
工件轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)	下轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)
應(yīng)用技術(shù)	ZP+ARC PMB +LZY（選配）
標(biāo)準(zhǔn)涂層效果	IP黑，玫瑰金，IP金，寶石藍，香檳金，炫銀，咖啡色，七彩，槍黑色，鋯金，玫瑰紅等
生產(chǎn)周期	0.5-2小時/爐
外圍尺寸	L 3300×W2900×H2500 MM
實際功率	90KW
配套條件	循環(huán)水壓力：2-3KG/CM³ 水量：10T/H 壓縮空氣：4-6 KG/CM³
工作氣體	Ar、N₂、O₂、C₂H₂等
控制方式	手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC（自己開發(fā)的鍍膜專用軟件）