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儀器簡介：

XAU-4CS是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度高的光譜分析儀，采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì)，是一款一機(jī)多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)，既保留了專用測厚儀jiance微小樣品和凹槽的性能，又可滿足微區(qū)RoHSjiance及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。

產(chǎn)品優(yōu)勢：

微小樣品jiance：zui小測量面積0.03mm2（加長測量時(shí)間可小zhi0.01mm2）

變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm

自主研發(fā)的EFP算法：Li（3）-U（92）元素的涂鍍層，多層多元素，甚zhi有同種元素在不同層也jingque測量

的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾，jiangdi檢出限

高性能探測器：SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

光路系統(tǒng)：微焦加強(qiáng)型射線管搭配聚焦、光路交換裝置

多準(zhǔn)直器自動(dòng)切換

應(yīng)用領(lǐng)域：

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬jiance、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。

多元迭代EFP核心算法（號：2017SR567637）

zhuanye的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增qiangxiao應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子，可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及yuoji物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí)，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素，也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，diyi層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

有害元素jiance：RoHSjiance，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價(jià)鉻（Cr VI）等有害元素的成分jiance及含量分析

技術(shù)參數(shù)：

1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）

2. 成分zui低檢出限：1ppm

3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）

4. 涂鍍層zui低檢出限：0.005μm