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Plasma 3000 雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體光譜儀

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產(chǎn)品型號(hào)Plasma 3000

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更新時(shí)間：2024-04-23 16:32:12瀏覽次數(shù)：119次

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廣州儀云科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜（ICP-AES）技術(shù)由于其存在檢出限低、測(cè)量的動(dòng)態(tài)范圍寬、準(zhǔn)確度好、基體效應(yīng)小、精密度高等一系列優(yōu)點(diǎn)，是近年來發(fā)展迅速、應(yīng)用極為廣泛的一種光譜測(cè)試技術(shù)，Plasma2003具有垂直炬管雙向觀測(cè)、波長范圍寬、分辨率高、測(cè)試速度快、穩(wěn)定性好、動(dòng)態(tài)范圍寬等特點(diǎn)，可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農(nóng)業(yè)、食品、商檢、水質(zhì)等各領(lǐng)域及學(xué)

詳細(xì)介紹

儀器特點(diǎn)：

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測(cè)，具有穩(wěn)健的檢測(cè)能力。
高效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀"。
功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗(yàn)。

儀器參數(shù)：

技術(shù)參數(shù)：
射頻發(fā)生器技術(shù)參數(shù)：
輸出功率：700W-1600W連續(xù)1W可調(diào)
功率穩(wěn)定性：≤0.1%
震蕩頻率：27.12MHz
頻率穩(wěn)定性：≤0.01%
匹配方式：自動(dòng)匹配
電磁場泄露輻射強(qiáng)度：<0.5V/m

進(jìn)樣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
炬管方向：垂直放置
炬管線圈：3匝
炬管：一體式炬管，中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm（石英或陶瓷）。
霧化器：同心霧化器或平行通道霧化器，外徑6mm,可選標(biāo)準(zhǔn)霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器.
霧室：旋流霧化室，可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動(dòng)泵：4通道12滾輪，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)。
氬氣消耗量：12L/min~18L/min
冷卻氣：0.00L/min~20.00L/min，精度0.01L/min，高精度質(zhì)量流量控制器
輔助氣：0.00L/min~2.00L/min，精度0.01L/min，高精度質(zhì)量流量控制器
載氣：0.00L/min~2.00L/min，精度0.01L/min，高精度質(zhì)量流量控制器

光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)：
光柵：中階梯光柵，52.67g/mm，閃耀角63.5°
棱鏡：超純SiO2材料
分析譜線范圍：165nm-900nm
焦距：400mm
分辨率： ≤0.008nm@200nm
雜散光：10000μg/ml的Ca溶液在As189.042nm處的等效背景濃度<2ug/ml
光室恒溫：高精度恒溫38℃±0.1℃
光室充氣：多點(diǎn)充氣技術(shù)，小流量吹掃1L/min，大流量吹掃4L/min

檢測(cè)器技術(shù)參數(shù)：
檢測(cè)器：背照式CCD檢測(cè)器，抗飽和溢出
像面尺寸：25.4mm x 25.4mm
CCD像素：1024x 1024
單像素面積：24μm x 24μm
波長響應(yīng)范圍：120nm~1100nm
量子化效率：無鍍膜，量子化效率可達(dá)75%以上
檢測(cè)器冷卻：高效半導(dǎo)體制冷，制冷溫度<-35℃

分析性能：
觀測(cè)方式：垂直火炬
檢出限：亞ppb-ppb
短期穩(wěn)定性：RSD≤0.5%（500LOD）
長期穩(wěn)定性：RSD≤1.0%（2h，500LOD）

關(guān)鍵詞：蠕動(dòng)泵質(zhì)量流量控制器流量控制器

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