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天天雙單元電化學(xué)工作站LDX-CS2350

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更新時間：2024-06-03 07:56:16瀏覽次數(shù)：263次

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產(chǎn)品簡介

半價優(yōu)惠雙單元電化學(xué)工作站雙恒電位儀電化學(xué)分析儀型號：LDX-CS2350LDX-CS2350雙單元電化學(xué)工作站是基于常規(guī)單通道系列CS350型發(fā)展而來，內(nèi)置兩套的恒電位/恒電流儀，每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電輸出，并由Corrtest軟件來協(xié)調(diào)輸出電位/電流

詳細(xì)介紹

半價優(yōu)惠雙單元電化學(xué)工作站雙恒電位儀電化學(xué)分析儀
型號：LDX-CS2350

LDX-CS2350雙單元電化學(xué)工作站是基于常規(guī)單通道系列CS350型發(fā)展而來，內(nèi)置兩套的恒電位/恒電流儀，每套恒電位儀各有一套輔助、工作和參比電輸出，并由Corrtest軟件來協(xié)調(diào)輸出電位/電流。

LDX-CS2350工作時分主單元和從單元兩路，從單元采用浮地模式實(shí)現(xiàn)對第二工作電WEII的電位/電流控制。第二工作電電位可以保持在的恒定電位或電流值，也可實(shí)現(xiàn)于一工作電的線性掃描或循環(huán)伏案掃描等測試。

因此，LDX-CS2350除了具備單通道工作站的所有特點(diǎn)，還可用于電化學(xué)反應(yīng)中間產(chǎn)物的檢測。

典型應(yīng)用

①配合旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電用于研究電化學(xué)氧化還原體系，在測量圓盤電化曲線的同時，控制圓環(huán)電于一個固定的化電勢，用以檢測圓盤電上產(chǎn)生的反應(yīng)中間物，該方法也成為檢測反應(yīng)中間物和研究電反應(yīng)機(jī)理的典型流體動力學(xué)方法。

②金屬中氫擴(kuò)散測試，兩個恒電位裝置配合Devnathan-Stachurski雙電解池，通過左側(cè)電解池的陰充氫和右側(cè)電解的氫原子陽氧化電流測量，進(jìn)而計(jì)算氫原子在金屬中擴(kuò)散系數(shù)和氫通量。

硬件參數(shù)指標(biāo)

雙恒電位儀：單恒電位電位控制范圍：±10V 雙恒電位儀電位控制范圍:±10V	恒電流控制范圍：±2.0A
電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV	電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)
電位靈敏度：10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz)	電流靈敏度：<10pA
電位上升時間：＜1μS(<10mA),＜10μS(<2A)	電流量程：2A～200nA, 共8檔
參比電輸入阻抗：10¹²Ω\|\|20pF	zui大輸出電流：2.0A
槽壓輸出：±21V	電流掃描增量：1mA @1A/mS
CV和LSV掃描速度：0.001mV～10000V/s	電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS
CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s	DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
SWV頻率：0.001～100KHz	CV的zui小電位增量：0.075mV
AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1kHz	電流與電位量程：自動設(shè)置
DA分辨率：16bit，建立時間：1μS	低通濾波器：8段可編程
通訊接口：USB2.0	儀器重量：6.5Kg
外形尺寸（cm）：36.5(W)X30.5 (D)X16 (H)

電化學(xué)阻抗測量參數(shù)

信號發(fā)生器
頻率響應(yīng)：10μHz～1MHz	交流信號幅值：1mV～2500mV
頻率度：0.005%	信號分辨率：0.1Mv RMS
直流偏壓：-10V～+10V	DDS輸出阻抗：50Ω
波形：正弦波，三角波，方波	正弦波失真率：<1%
掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降
信號分析器
zui大積分時間：10⁶個循環(huán)或者10⁵S	測量時間延遲：0～10⁵秒
zui小積分時間：10mS 或者一個循環(huán)的長時間
直流偏置補(bǔ)償
電位補(bǔ)償范圍：-10V～+10V	電流補(bǔ)償范圍：-1A～+1A
帶寬調(diào)整：自動或手動設(shè)置, 共8級可調(diào)

CS2350雙單元電化學(xué)工作站功能方法

功能方法		主單元	從單元	功能方法		主單元	從單元
穩(wěn) 態(tài) 化	開路電位測量（OCP）	•	•	溶出伏安	恒電位溶出伏安	•
	恒電位化（i-t曲線）	•	•		線性溶出伏安	•
	恒電流化	•	•		階梯溶出伏安	•
	動電位掃描（TAFEL曲線）	•	•		方波溶出伏安	•	•
	動電流掃描（DGP）	•		交流阻抗	電化學(xué)阻抗（EIS）～頻率掃描	•	•
暫態(tài) 化	任意恒電位階梯波	•			電化學(xué)阻抗（EIS）～時間掃描	•
	任意恒電流階梯波	•			電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線）	•
	恒電位階躍（VSTEP）	•			電化學(xué)阻抗（EIS）～電位掃描（Mott-Schottky曲線）	•
	恒電流階躍（ISTEP）	•		腐蝕測量	循環(huán)化曲線（CPP）	•	•
	快速電位脈沖	•			線性化曲線（LPR）	•	•
	快速電流脈沖	•			動電位再活化法（EPR）	•
計(jì) 時分析	計(jì)時電位法（CP）	•			電化學(xué)噪聲 (EN)	•
	計(jì)時電流法（CA）	•			電偶腐蝕測量 (ZRA)	•
	計(jì)時電流法（CA）	•			氫擴(kuò)散測試（HDT）*	•
	計(jì)時電量法（CC）	•		電池測試	電池充放電測試	•	•
伏安分析	線性掃描伏安法（LSV）	•	•		電池充放電測試	•	•
	線性循環(huán)伏安法（CV）	•	•		恒電流充放電	•
	階梯循環(huán)伏安法（SCV）	•			恒電流充放電	•
	差分脈沖伏安法（DPV）	•		擴(kuò) 展測量	盤環(huán)電測試 *	•
	常規(guī)脈沖伏安法（NPV）	•			數(shù)字記錄儀	•	•
	方波伏安法（SWV）	•			波形發(fā)生器	•	•
	交流伏安法（ACV）	•			圓盤電機(jī)控制	•	•
	常規(guī)差分脈沖伏安法（DNPV）	•
	二次諧波交流伏安 (SHACV)	•