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XPR-200E顯微熔點儀上海繪統(tǒng)光學(xué)儀器廠

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更新時間：2023-01-19 10:00:38瀏覽次數(shù)：263次

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上海繪統(tǒng)光學(xué)儀器廠

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產(chǎn)品簡介

XPR-300型透射偏光熔點測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)Z常用的專業(yè)實驗儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化，該儀器采用微電腦檢測

詳細介紹

一、儀器的用途：

XPR-300型透射偏光熔點測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)zui常用的專業(yè)實驗儀器。可供廣大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化，該儀器采用微電腦檢測，有自動P、I、D調(diào)節(jié)，及模糊手動調(diào)節(jié)功能，通過LED顯示溫度值及設(shè)定溫度值,儀表顯示準(zhǔn)確、清晰.穩(wěn)定，對溫度可設(shè)定時間間隔內(nèi)或隨機打印溫度數(shù)據(jù)，設(shè)有“上、下”限自動報警裝置，并可隨時檢查設(shè)定的溫度數(shù)據(jù)，是新一代熔點測溫，控溫裝置。配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺等附件，本儀器的具有可擴展性，可以接計算機和數(shù)碼相機。對圖片進行保存、編輯和打印。是一組具有較完備功能和良好品質(zhì)的新型產(chǎn)品。

二、技術(shù)參數(shù)

1.目鏡

類別	放大倍數(shù)	視場（mm）
平場目鏡	10X	φ18
分劃目鏡	10X	φ18

2.物鏡

類別	放大倍數(shù)	數(shù)值孔徑（NA）	蓋玻片厚度（mm）
無應(yīng)力平場消色差物鏡	4X	0.10	-
	10X	0.25	-
	40X	0.65	0.17
	60X	0.85	0.17

3.光學(xué)放大倍數(shù)：40X -- 600X

4.系統(tǒng)放大倍數(shù)：40X-2600X
5.旋轉(zhuǎn)載物臺：可拆卸移動機構(gòu) 移動范圍：30mm×40mm
6.調(diào)焦機構(gòu)：同軸共軌式粗微動調(diào)焦
7.調(diào)節(jié)范圍 26mm，微動格值 0.002 mm，帶鎖緊和限位裝置
8.透射照明：起偏器可360°旋轉(zhuǎn)，有0、90、180、270四個讀數(shù)光源6V/20W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)阿貝聚光鏡 N.A=1.25 可上下升降
9.中間接筒：內(nèi)置檢偏器，可自由切換正常觀察與偏光觀察，90°旋轉(zhuǎn)，帶刻度，游標(biāo)格值 12′補償器：石膏λ片，云母λ/4片，石英契子
10.防霉功能：*的防霉系統(tǒng)

三、系統(tǒng)簡介

偏光熔點測定儀系統(tǒng)是將精密的光學(xué)顯微鏡技術(shù)、*的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、*的計算機圖像處理技術(shù)*地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的一項高科技產(chǎn)品?？梢栽陲@示屏上很方便地觀察實時動態(tài)圖像，并能將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。

四、熱臺：

1.顯微精密控溫儀
在 20X 物鏡下工作溫度可達到zui高300 ℃ 、溫度運行程序全自動控制；溫度程序段由用戶自行設(shè)定，30段溫度編程，循環(huán)操作，能準(zhǔn)確反映設(shè)定溫度、爐芯溫度、樣品的實際溫度。每段設(shè)定起始溫度，及在該段內(nèi)可維持時間，升溫速率可調(diào)、精度±0.3 ℃、記憶點讀數(shù)

2.顯微加熱平臺
可以隨載物臺移動、工作區(qū)加熱面積大、透光區(qū)域可調(diào)、工作區(qū)溫度梯度低于± 0.1
起始溫度室溫
工作區(qū)加熱使用面積至少1X1cm
工作區(qū)溫度梯度不超過 ± 0.1oC
透光區(qū)域 2mm以上，可調(diào)
顯示溫度與實際溫度誤差不超過 ± 0.2
熱臺可以隨載物臺移動
熔點測定溫度超過100度時，25X的物鏡工作距離太近，容易損壞鏡頭，請選用長工作距離的 20X、40X 物鏡