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18t/h edi高純水制取設(shè)備

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產(chǎn)品簡介

一、18t/hedi高純水制取設(shè)備的概述：在傳統(tǒng)的超純水制取中工藝中主要采用的反滲透（RO）技術(shù)是一種利用膜分離去除水中離子的方法

詳細(xì)介紹

一、18t/h edi高純水制取設(shè)備的概述：
在傳統(tǒng)的超純水制取中工藝中主要采用的反滲透（ RO ）技術(shù)是一種利用膜分離去除水中離子的方法，盡管反滲透系統(tǒng)將水中 95%-98% 的離子去除，但還不能滿足工業(yè)生產(chǎn)的要求，其后續(xù)工藝使用離子交換設(shè)備，近幾十年以來，混合床離子交換技術(shù)一直作為純水制備的標(biāo)準(zhǔn)工藝，是現(xiàn)在純水設(shè)備常用的標(biāo)準(zhǔn)工藝，由于其去離子水設(shè)運(yùn)行制水時(shí)需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學(xué)藥品（酸堿）和純水，因此已很難滿足于無酸堿純水系統(tǒng)。 EDI高純水制取設(shè)備系統(tǒng)是將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)有機(jī)結(jié)合形成的一種新型除鹽技術(shù)，可以有效的去除水中全部離子，出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)運(yùn)行、無化學(xué)污染、水的利用率高，在高純水制備工藝上有著廣闊的應(yīng)用前景。

二、18t/h edi高純水制取設(shè)備的進(jìn)水水質(zhì)要求：
TEA( 含 CO 2 ) <25mg/Las（CaCO3）

PH 5 - 9
硬度 < 0.1 mg/Las（CaCO3）

硅 <0.5mg/L
T OC <0.5 mg/L

余氯 <0.05mg/L
Fe ， Mn ， H2S <0.01 mg/L

進(jìn)水壓力30 － 100PSI

三、edi高純水制取設(shè)備在經(jīng)過了近十幾年的水處理行業(yè)發(fā)展，其技術(shù)也是非常成熟，那么下面介紹一下EDI技術(shù)的發(fā)展史：
一階段：預(yù)處理—— > 陽床 ——> 陰床 ——> 混合床
二階段：預(yù)處理—— > 反滲透 ——> 混合床
三階段：預(yù)處理—— > 反滲透 ——>EDI 裝置

四、18t/h edi高純水制取設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)
edi高純水制取設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水，如產(chǎn)水電阻率要求在10兆歐以下，目前也有很多采用單級反滲透加EDI相結(jié)合的工藝，但如若想產(chǎn)水量及水質(zhì)更穩(wěn)定，還是建議采用二級反滲透加EDI制備，edi高純水制取設(shè)備技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn):
①edi高純水制取設(shè)備出水水質(zhì)穩(wěn)定
②edi高純水制取設(shè)備容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
③edi高純水制取設(shè)備不會因再生而停機(jī)
④edi高純水制取設(shè)備不需化學(xué)再生
⑤edi高純水制取設(shè)備運(yùn)行費(fèi)用低
⑥edi高純水制取設(shè)備廠房面積小
⑦edi高純水制取設(shè)備無污水排放。

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