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西安明克斯檢測設(shè)備有限公司


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DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置DH450-ZZK真空鍍膜機/DH450-ZZF真空鍍膜機/DH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機/DH-900DZX電弧/磁控濺射箱式鍍膜機/DH-500ZZS箱...

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更新時間:2024-01-29 12:31:50瀏覽次數(shù):478次

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產(chǎn)品簡介

西安明克斯向國內(nèi)用戶現(xiàn)貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置,歡迎選購。一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述: DHDM-1DHDM-2DHDM-3沉積室玻璃真空室不銹鋼真空室濺射電源直流200~700V可調(diào),功率0~1000W可調(diào)磁控靶Φ50mm平面靶真空系統(tǒng)機械泵機械泵+擴散泵機械泵+分子泵極限真空6.7×10-1Pa5×10-4Pa8×10-5Pa 恢復(fù)真空2Pa5×10-3......

詳細(xì)介紹

西安明克斯向國內(nèi)用戶現(xiàn)貨提供DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置,歡迎選購。

一、DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置概述:

DHDM-1
DHDM-2
DHDM-3
沉積室
玻璃真空室
不銹鋼真空室
濺射電源
直流200~700V可調(diào),功率0~1000W可調(diào)
磁控靶
Φ50mm平面靶
真空系統(tǒng)
機械泵
機械泵+擴散泵
機械泵+分子泵
極限真空
6.7×10-1Pa
5×10-4Pa
8×10-5Pa
恢復(fù)真空
2Pa
5×10-3Pa
8×10-4Pa
進氣系統(tǒng)
二路轉(zhuǎn)子流量計或二路質(zhì)量流量計
襯底溫度
室溫至300℃可調(diào)可控;
真空測量
數(shù)顯電阻真空計
數(shù)顯復(fù)合真空計
DHDM-2 詳細(xì)規(guī)格參數(shù)
DHDM-2 1、濺射鍍膜室:玻璃鐘罩+不銹鋼底座,真空室尺寸:Φ300×360mm;
2、濺射電源:直流200~1000 V,功率0~1000 W可調(diào);
3、濺射靶:Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調(diào)距離:20~40 mm;
4、基片溫度:室溫~200℃ PID控制;
5、真空測量:數(shù)顯電阻真空計;
6、進氣系統(tǒng):二路質(zhì)量流量計;
7、真空系統(tǒng):2XZ-4B機械泵+K-100擴散泵;
8、極限真空:5×10-4 Pa;
9、恢復(fù)真空:5×10-3 Pa
10、工作電源:AC220V±5%,50Hz;
11、整機配有水流報警系統(tǒng),在水壓不夠或斷水時報警,并切斷濺射電源、機械泵電源等;采用獨立式電控柜,帶獨立滾輪,方便維修。電氣元件:主要采用法國施耐德品牌或韓國 LG 品牌產(chǎn)品,產(chǎn)品故障率低;
12、隨機配有高純度銅靶材。
配件 冷卻水系統(tǒng);注:可用實驗室自來水
氣源:氬氣(99.99%),40升鋼瓶帶減壓閥。
超聲波清洗機:3升/90W/59HZ
DH450-ZZK
真空鍍膜機
本裝置適用于在塑膠、玻璃、陶瓷等材質(zhì)的工件上鍍制金屬膜、裝飾膜、硬質(zhì)膜、金剛膜、或光學(xué)膜等科研與生產(chǎn)工作。
主要技術(shù)參數(shù)
1、真空室:鍍膜室尺寸:Φ450×540mm;結(jié)構(gòu):箱式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),手動推拉式;觀察窗:鍍膜室門上配有Φ100mm觀察窗;
2、蒸發(fā)組件:蒸發(fā)電源(3KW/10V)2組;水冷蒸發(fā)電極2對;
3、控制方式:手動按鍵式;
4、旋轉(zhuǎn)夾具:球面拱形夾具,0~30r/min無級可調(diào)(可根據(jù)要求定制);
5、工件烘烤:室溫~300℃(PID控制);
6、真空測量:數(shù)顯復(fù)合真空計;
7、供電電源:三相AC380V,50Hz;
8、選配件:石英晶振膜厚測控儀、高壓離子轟擊;
9、用戶需自備或另購冷卻水系統(tǒng)。
1、真空系統(tǒng):機械泵(2XZ-8B機械泵)+擴散泵(K-200不銹鋼擴散泵);
2、極限真空:2×10-4Pa;
3、恢復(fù)真空:5×10-3 Pa(小于25min)。
DH450-ZZF
真空鍍膜機
1、真空系統(tǒng):機械泵(2ZX-8機械泵)+分子泵(FF160/620分子泵);
2、極限真空:6.7×10-5Pa;
3、恢復(fù)真空:5×10-4Pa(小于45min)。
DH-500JJC
多靶磁控濺射鍍膜機
該設(shè)備是單室多靶磁控濺射鍍膜設(shè)備,主要用磁控濺射或反應(yīng)濺射的方法制備金屬膜,半導(dǎo)體膜,陶瓷膜,介質(zhì)復(fù)合膜及多層膜和其它化學(xué)反應(yīng)膜及摻雜膜等。
適用于鍍制各種單層膜,多層膜及摻雜膜系。
主要技術(shù)參數(shù)
1、真空室內(nèi)腔尺寸:Φ500×600(mm)為圓筒式電動上掀蓋全不銹鋼結(jié)構(gòu);
2、極限真空度:≤5×10-5 Pa(系統(tǒng)經(jīng)烘烤);
3、恢復(fù)真空:從大氣抽至6.4×10-4 Pa ≤(40分鐘);
4、觀察窗:規(guī)格Φ100mm帶護目遮板 數(shù)量:2個;
5、濺射靶組件:3組Φ2英寸磁控靶,基片臺和磁控靶可調(diào)距離:110~130mm可調(diào),并有調(diào)位距離指示;三套靶電動擋板,每個靶前面配有一套靶擋板,電動控制可遮擋三個工件位置;靶在下,基片在上,向上濺射成膜;射頻濺射與直流濺射兼容,靶內(nèi)有水冷;
6、樣品轉(zhuǎn)臺:基片尺寸45×60mm;三個可以放置基片位置,一個基片臺可以加熱;加熱溫度可達(dá)到500℃;基片轉(zhuǎn)盤能夠0~360°來回轉(zhuǎn)動。拆掉加熱裝置測量線和電源線后能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)回轉(zhuǎn);基片可以加負(fù)偏壓,在0~-200V連續(xù)可調(diào);
7、真空系統(tǒng):機械泵+分子泵準(zhǔn)無油真空系統(tǒng);
8、工作氣路:二路質(zhì)量流量控制器控制進氣;
9、濺射電源:直流電源 1000W 1臺;射頻電源 500W(13.56MHz)2臺;
10、供電電源:三相AC380V,50Hz;
11、真空測量:數(shù)顯復(fù)合真空計;
12、配有膜厚控制系統(tǒng);
13、選購件:負(fù)偏壓電源、循環(huán)水機組等。
產(chǎn)品名稱/型號
產(chǎn)品配置/技術(shù)參數(shù)性能
DH-900DZX
電弧/磁控濺射箱式鍍膜機
PVD 涂層技術(shù)不僅可提供炫耀的色彩涂層,還具有超硬度、耐磨損、耐腐蝕、抗劃痕和應(yīng)力碎裂,而且在日常磨損條件下可保持耀眼的光澤,是應(yīng)用于裝飾工業(yè)的主流技術(shù)。PVD 涂層技術(shù)包括電弧離子鍍、磁控濺射鍍(直流、脈沖、中頻和非平衡)以及復(fù)合鍍膜。
可獲得顏色包括:
1. TiN( 仿金色);
2. ZrHfN、TiZrN( 仿金色);
3. TiC 、TiNC(亮灰色、槍黑色);
4. TiNC、TiAlN( 玫瑰金、咖啡色);
5. TiO、 TiAlN( 寶石蘭色、彩虹色);
6. ZrN( 黃銅色、鋯金色);
7. ZrO( 仿不銹鋼色);
8. Ni、Cr、AL、Au、Ag( 金、銀、鎳、鉻、鋁等單色金屬膜)。
主要技術(shù)參數(shù)
1、真空腔室尺寸:Φ900×H1000mm;可鍍膜空間:Φ600×H700mm;
2、極限真空:5.0×10-4Pa;
3、工件架:8根公自轉(zhuǎn)桿+4根公轉(zhuǎn)桿,公/自轉(zhuǎn)0-20RPM,可加熱烘烤至500℃;
4、矩形靶尺寸:650×150mm 矩形,非平衡磁控濺射靶,對靶結(jié)構(gòu);
5、濺射電源:中頻脈沖恒流源,電壓可調(diào)。頻率 40KHz,功率 20KW;
6、弧源:φ100mm弧源;
7、電弧電源:250A 逆變弧電源,數(shù)量:六臺;
8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率30KW;
9、控制方式:PLC+PC自動;
10、強制水冷保護系統(tǒng)。
DH-500ZZS
箱式電子束
蒸發(fā)鍍膜機
本箱式電子束蒸發(fā)鍍膜機由我公司和材料物理重點實驗室聯(lián)合研制。
適用于制備導(dǎo)電薄膜,半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,高性能薄膜研究及新材料科學(xué)研究工作。其主要特點為功能強、鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定、重復(fù)性好、操作簡便。
主要技術(shù)參數(shù)
1、鍍膜室體積:500×500×600mm,特殊規(guī)格可定做;
2、極限真空:6.7×10-5 Pa,恢復(fù)真空:從大氣抽至6.7×10-4 Pa ≤(40分鐘);
3、抽氣系統(tǒng):直聯(lián)機械泵+復(fù)合分子泵組成;真空測量:復(fù)合數(shù)顯真空計;
4、蒸發(fā)源:電子束蒸發(fā)源:270°E型電子槍及高壓電源,電子槍功率0~6KW可調(diào);電阻蒸發(fā)源:銅水冷電極4根,功率:3kW/10V兩組;
5、結(jié)構(gòu)形式:立式前開門后置抽氣系統(tǒng);
6、工件烘烤溫度:室溫~500℃可控可調(diào)(PID控溫);
7、旋轉(zhuǎn)夾具:公轉(zhuǎn)或行星公自轉(zhuǎn)夾具。速度從 0r~30r/min 無級可調(diào);
8、供電電源:三相AC380V,50Hz;整機功率22KW;
9、選配件:光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)、石英晶振測厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機組等。
相關(guān)參數(shù) 型號名稱: 主要參數(shù): 備注:


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