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產(chǎn)品型號(hào)HTK GR
品 牌
廠(chǎng)商性質(zhì)其他
所 在 地武漢市
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更新時(shí)間：2024-04-28 09:29:08瀏覽次數(shù)：58次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線(xiàn)石墨爐HTKGR可在粗/高真空下使用，也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣，一氧化碳
石墨爐HTK GR 可在粗/高真空下使用，也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣，一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。
石墨爐HTK GR 可在粗/高真空下使用，也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣，一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。
矩形爐體，前開(kāi)門(mén)設(shè)計(jì)使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。最小體積8L，25L通常用于實(shí)驗(yàn)室開(kāi)發(fā)和研究。80L，220L，400L或600L主要用于生產(chǎn)系統(tǒng)試驗(yàn)或大型生產(chǎn)。
HTK GR保溫材料和加熱元件均為石墨，溫度2200°C，適合那些熱處理應(yīng)用。根據(jù)應(yīng)用需要可配備石墨反應(yīng)罐，該反應(yīng)罐可以通入氣氛。對(duì)有氣體釋放的應(yīng)用來(lái)說(shuō)，反應(yīng)罐可以保護(hù)加熱元件，延長(zhǎng)爐子的使用壽命。配備反應(yīng)罐后，溫度均勻性也有所改善，小于±10°C。
graphiting, pyrolysis, siliconization, sintering, technical ceramics
HTK石墨爐內(nèi)部結(jié)構(gòu)
1、支架
2、水冷夾層
3、加熱盒
4、密封槽
5、前門(mén)
6、石墨保溫材料
腔體的四面都有加熱元件。加熱元件置于爐子內(nèi)腔的頂部，左右側(cè)和頂部。這種排列有助于提高溫度均勻性。對(duì)于大體積的爐子，腔體的前部和背部也有安裝加熱元件。體積增大則需要更多的加熱元件來(lái)保證良好的溫度均勻性。我們的設(shè)計(jì)保證HTK全系列爐子溫度均勻性都能達(dá)到。HTK W , HTK MO, HTK GR 和HTK KE周?chē)加兴鋳A層，此特點(diǎn)將HTK定義為冷壁爐。冷卻水通過(guò)雙重夾層導(dǎo)入。
若有應(yīng)用需要，HTK GR的溫度可達(dá)到3000°C。該溫度范圍需要特殊的爐子設(shè)計(jì)。除了合適的保溫材料厚度，還需要特殊幾何形狀的加熱元件和控溫用高溫計(jì)。高溫計(jì)通過(guò)光學(xué)方法直接測(cè)量熱輻射，并沒(méi)有插入爐內(nèi)，而是通過(guò)窗口來(lái)探測(cè)。
該原理只有在發(fā)射足夠輻射量時(shí)才能工作，需要的輻射量在400°C以上才能夠發(fā)射，低于400°C采用移動(dòng)熱電偶來(lái)控制溫度。
因?yàn)樘颊羝麎毫Φ脑黾樱?000°C僅適用于惰性氣體環(huán)境。碳蒸汽壓力會(huì)導(dǎo)致碳被釋放到大氣中，對(duì)碳敏感的樣品則需要使
用金屬爐。
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