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納米粒度及Zeta電位分析儀 SZ901

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更新時間：2024-01-10 15:18:21瀏覽次數(shù)：182次

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產(chǎn)品簡介

SZ901納米粒度及Zeta電位分析儀產(chǎn)品介紹：SZ901納米粒度及Zeta電位分析儀是在SZ900基礎(chǔ)上基于多年的科研成果開發(fā)的新一代納米粒度和Zeta電位分析系統(tǒng)

詳細介紹

SZ901納米粒度及Zeta電位分析儀產(chǎn)品介紹：

SZ901納米粒度及Zeta電位分析儀是在SZ900基礎(chǔ)上基于多年的科研成果開發(fā)的新一代納米粒度和Zeta電位分析系統(tǒng)，采用動態(tài)光散射(DLS)和電泳光散射(ELS)原理分別進行納米粒度測量和Zeta電位分析，被廣泛應(yīng)用于有機或無機納米顆粒、乳液、高分子聚合物、膠束、病毒抗體及蛋白質(zhì)等樣品的顆粒表征及樣品體系穩(wěn)定性及顆粒團聚傾向性的檢測和分析。

SZ901的性能和主要特點包括：

◆經(jīng)典90°動態(tài)光散射技術(shù)測量粒徑，測量范圍覆蓋0.3nm – 15μm

◆激光多普勒電泳技術(shù)用于Zeta電位分析，可預(yù)知分散體系的穩(wěn)定性及顆粒團聚的傾向性

◆加持自動恒溫技術(shù)的功率可達50mW, 波長638nm的固體激光光源，儀器即開即用

◆激光光源與照明光及參考光的一體化及光纖分束技術(shù)

◆ 信號光與參考光的光纖合束及干涉技術(shù)

◆ 集成光纖技術(shù)的高靈敏度和極低暗電流(20cps)的光子檢測器

◆ 常規(guī)溫度控制范圍可達0°C - 90°C, 可選120°C, 精度±0.1°C

◆新一代高速數(shù)字相關(guān)器，動態(tài)范圍大于10¹¹

◆冷凝控制–干燥氣體吹掃技術(shù)

技術(shù)指標：

測量原理	動態(tài)光散射（DLS）、靜態(tài)光散射（SLS）、電泳光散射（ELS）
粒徑測量角度	90°
粒徑測量范圍	0.3nm -15μm*
粒徑度	優(yōu)于±1% （平均粒徑，NIST可溯源標準樣品）
粒徑重復(fù)性	優(yōu)于±1% （平均粒徑，NIST可溯源標準樣品）
粒徑測量小樣品濃度	0.1mg/ml
粒徑測量小樣品量	3ul*
Zeta電位測量范圍	-600mV - +600mV
電導(dǎo)率	270mS/cm
適用Zeta電位測量的粒徑	3nm – 100μm*
電導(dǎo)率度	±10%
分子量范圍	340Da-2 x 107Da
溫度控制范圍	0°C - 90°C (120°C可選)
溫度控制精度	±0.1°C
光源	集成恒溫系統(tǒng)及光纖耦合的功率50mW, 波長638nm固體激光器
相關(guān)器	高速數(shù)字相關(guān)器，自適應(yīng)通道配置
檢測器	高靈敏度APD
系統(tǒng)重量	17kg
外形尺寸	365mm x 475mm x 180mm（LxWxH）