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深圳市中圖儀器股份有限公司
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更新時間:2025-06-13 13:13:55瀏覽次數(shù):35次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線CP200臺階儀
CP200臺階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器,其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。測量時通過使用2μm半徑的金剛石針尖在超精密位移臺移動樣品時掃描其表面,測針的垂直位移距離被轉(zhuǎn)換為與特征尺寸相匹配的電信號并最終轉(zhuǎn)換為數(shù)字點(diǎn)云信號,數(shù)據(jù)點(diǎn)云信號在分析軟件中呈現(xiàn)并使用不同的分析工具來獲取相應(yīng)的臺階高或粗糙度等有關(guān)表面質(zhì)量的數(shù)據(jù)。
CP200臺階儀采用了高精度的傳感器LVDT,具備超微力調(diào)節(jié)的能力和亞埃級的分辨率,同時,基于超滑光學(xué)平晶,其集成了超低噪聲信號采集、超精細(xì)運(yùn)動控制、標(biāo)定算法等核心技術(shù),使得儀器具備超高的測量精度和測量重復(fù)性。
CP200臺階儀具備的應(yīng)用場景適應(yīng)性,其對被測樣品的反射率特性、材料種類及硬度等均無特殊要求,能夠廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能光伏、光學(xué)加工、LED、MEMS器件、微納材料制備等各行業(yè)領(lǐng)域內(nèi)的工業(yè)企業(yè)與高校院所等科研單位,其對表面微觀形貌參數(shù)的準(zhǔn)確表征,對于相關(guān)材料的評定、性能的分析與加工工藝的改善具有重要意義。
1) 臺階高度:能夠測量納米到1050μm的臺階高度,可以準(zhǔn)確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。
2) 粗糙度與波紋度:能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,分析軟件通過計算掃描出的微觀輪廓曲線,可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等數(shù)十項參數(shù)。
3) 具備薄膜應(yīng)力測量功能。
1) 單區(qū)域測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖設(shè)置掃描起點(diǎn)和掃描長度,即可開始測量。
2) 多區(qū)域測量模式:完成Focus后,根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,可根據(jù)橫向和縱向距離來陣列形成不低于30個掃描路徑區(qū)域,一鍵即可完成所有區(qū)域掃描路徑的自動測量,掃描分析次數(shù)15次。
3) 3D測量模式:完成Focus后根據(jù)影像導(dǎo)航圖完成單區(qū)域掃描路徑設(shè)置,并可根據(jù)所需掃描的區(qū)域?qū)挾然驋呙杈€條的間距與數(shù)量完成整個掃描面區(qū)域的設(shè)置,一鍵即可自動完成整個掃描面區(qū)域的掃描和3D圖像重建。
4) SPC統(tǒng)計分析:支持對不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計數(shù)據(jù)的變化趨勢。
采用了磁吸式測針,當(dāng)需要執(zhí)行換針操作時,可現(xiàn)場快速更換掃描測針,并根據(jù)軟件中的標(biāo)定模塊進(jìn)行快速自動標(biāo)定,確保換針后的精度和重復(fù)性,減少維護(hù)煩惱。
在CP200型號中配備了正視和斜視的500W像素的彩色相機(jī),在正視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可精確設(shè)置掃描路徑,在斜視導(dǎo)航影像系統(tǒng)中可實時跟進(jìn)掃描軌跡。
型號 | CP200 | |
樣品觀察 | 正視導(dǎo)航 | 500萬像素彩色攝像機(jī) 正視視野:10×13.4mm |
斜視導(dǎo)航 | 500萬像素彩色攝像機(jī) 斜視視野:2×2.68mm | |
探針傳感器 | 高精度傳感器LVDT | |
測量力 | 1-50mg,連續(xù)可調(diào),不破壞樣品 | |
探針選型 | 探針曲率半徑2μm,夾角60° | |
平臺移動范圍X/Y | 電動X/Y(200mm×200mm)(可手動校平) | |
樣品R-θ載物臺 | 電動,360°連續(xù)旋轉(zhuǎn),8英寸大小 | |
負(fù)載 | 14kg | |
單次掃描長度 | 55mm | |
掃描長度 | 200mm | |
樣品厚度 | 50mm | |
Z軸行程 | 50mm | |
垂直分辨率 | 0.1nm | |
臺階高度重復(fù)性*1 | 0.38nm | |
傳感器量程 | 1050μm | |
掃描速度 | 2μm/s-10mm/s | |
掃描采樣點(diǎn)數(shù) | 120000 | |
儀器電源 | 100-240 VAC,50/60 Hz,200W | |
使用環(huán)境 | 相對濕度:濕度 (無凝結(jié))30-40% RH 溫度:16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃) 地面振動:6.35μm/s(1-100Hz) |
注:*1 重復(fù)性數(shù)據(jù)均為配置了隔震臺后在符合VC-C的實驗室環(huán)境下測得,若不滿足該條件,則指標(biāo)下修一倍;
半導(dǎo)體應(yīng)用 ◆ 沉積薄膜的臺階高度 ◆ 抗蝕劑(軟膜材料)的臺階高度 ◆ 蝕刻速率測定 ◆ 化學(xué)機(jī)械拋光(腐蝕、凹陷、彎曲) | 大型基板應(yīng)用 ◆ 印刷電路板(突起、臺階高度) ◆ 窗口涂層 ◆ 晶片掩模 ◆ 晶片卡盤涂料 ◆ 拋光板 |
玻璃基板及顯示器應(yīng)用 ◆ AMOLED ◆ 液晶屏研發(fā)的臺階步級高度測量 ◆ 觸控面板薄膜厚度測量 ◆ 太陽能涂層薄膜測量 | 柔性電子器件薄膜應(yīng)用 ◆ 有機(jī)光電探測器 ◆ 印于薄膜和玻璃上的有機(jī)薄膜 ◆ 觸摸屏銅跡線 |
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