德國蔡司Sigma 系列產品場發(fā)射掃描電子顯微鏡用于高品質成像與高級分析. 將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

詳細介紹

Sigma 系列產品場發(fā)射掃描電子顯微鏡

Sigma 系列產品用于高品質成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡.

靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。

Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。

產品特點

用于清晰成像的靈活探測

利用*探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。

自動化加速工作流程

4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。后使用工作流程的后一步，將結果可視化。

高級分析型顯微鏡

將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。

基于成熟的 Gemini 技術

Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。

用于清晰成像的靈活探測

利用新的探測技術表征所有的樣品。
在高真空模式下利用創(chuàng)新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
利用 BSD4 或者 YAG 探測器進行成份分析。

Sigma 300 可提供

集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應用中同時實現(xiàn)高清晰度成像

Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺計算機來控制 EDS 和 SEM，進而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時，借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設計的用戶界面可實現(xiàn)并行控制。
• 集成化：通過集成化，結合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯結果
• 定制化：根據不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度：*的氮化硅窗口增強低能X射線的探測靈敏度

拉曼成像與掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng):*集成化的拉曼成像

獲取樣品中化學結構的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。分析獲得樣品分子結構和結晶信息。通過拉曼成像與EDS數(shù)據可進行3D 分析并與SEM圖像關聯(lián)。*集成化的拉曼成像掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)使你充分發(fā)揮SEM和拉曼系統(tǒng)的功能。

技術參數(shù)

型號	Sigma 300	Sigma 500
電子源 Schottky 熱場發(fā)射器	Schottky 熱場發(fā)射器
分辨率* 30 kV（STEM）	1.0 nm	0.8 nm
分辨率*為15 kV	1.0 nm	0.8 nm
分辨率* at 1 kV	1.6 nm	1.4 nm
分辨率* 30 kV（VP模式）	2.0 nm	1.5 nm
反向散射檢測器（BSD） HD BSD	HD BSD
大掃描速度 50 ns /像素	50 ns /像素
加速電壓 0.02 – 30 kV	0.02 – 30 kV
放大倍率 10× – 1,000,000×	10× – 1,000,000×
探針電流 3 pA - 20 nA（任選100 nA）	3 pA - 20 nA（任選100 nA）
圖像幀庫 32 k×24 k像素	32 k×24 k像素
端口	10	14
EDS端口	2（1個專用端口）	3（2個專用端口）
*工作距離; 在終安裝時，分辨率在1kV和15kV高真空系統(tǒng)驗收測試中得到證實
真空模式
高真空	有
可變壓力	10 – 133 Pa
Stage 類型	5軸同心級	5軸偏心平臺	5軸同心級選件
Stage X行程	125 mm	130 mm	125 mm
Stage Y行程	125 mm	130 mm	125 mm
Stage Z行程	50 mm	50 mm	38 mm
Stage T行程	-10到+90度	-4到+70度	-10到+90度
Stage R行程	360° 連續(xù)	360°連續(xù)	360° 連續(xù)