污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
束蘊(yùn)儀器（上海）有限公司
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束蘊(yùn)儀器（上海）有限公司
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更新時(shí)間：2024-04-28 10:26:03瀏覽次數(shù)：369次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線產(chǎn)品概述：增強(qiáng)的fA分辨率及pA精度的低電流性能
產(chǎn)品概述：
增強(qiáng)的fA分辨率及pA精度的低電流性能； 高達(dá) 1A 的標(biāo)配電流輸出，同時(shí)提供多種電流放大器選項(xiàng)2A-20A； 2µs時(shí)間分辨率，確?？焖贁?shù)據(jù)采集及掃描速度； 附加的電流及電壓模擬濾噪功能，提供更杰出性噪比的測(cè)量； 內(nèi)建FRA頻響分析儀（可選），支持電化學(xué)阻抗測(cè)試，頻率范圍10μHz－1M Hz； 標(biāo)配 VersaStudio 軟件；
產(chǎn)品介紹
VersaSTAT 4 電化學(xué)工作站建立在VersaSTAT 3電化學(xué)工作站的全新杰出設(shè)計(jì)之上，提供您更加高速，靈活和高精度的性能，滿足您一系列的高級(jí)電化學(xué)應(yīng)用。標(biāo)準(zhǔn)電流增強(qiáng)為1A，同時(shí)提供20A的電流放大器選項(xiàng)，使得你的研究從初期的的電池研發(fā)，燃料電池研究，到最終成品電池的充放電實(shí)驗(yàn)都能在此臺(tái)儀器上實(shí)現(xiàn)，同時(shí)也面對(duì)下一代新型電池研究的挑戰(zhàn)。 fA分辨率及pA精度的低電流設(shè)計(jì)，使得低電流應(yīng)用研究成為可能，例如傳感器，腐蝕，抑制劑，以及結(jié)合可選的FRA進(jìn)行涂層技術(shù)研究。附加的模擬濾噪，給電流測(cè)試添加帶寬濾波，給電容性電解池增加穩(wěn)定性，使VersaSTAT 4成為腐蝕應(yīng)用研究的更加選擇。VersaSTAT 4 以其在VersaSTAT系列中最杰出的性能，滿足您各種研究應(yīng)用需求。
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數(shù)據(jù)采集 | |
數(shù)據(jù)采集 | 3 x 16 bit 500k 樣品/秒 數(shù)模轉(zhuǎn)換 |
時(shí)間分辨率 | 2µs (500k 樣品/秒) |
自動(dòng)噪音濾波 | 可用 |
功率放大器 | |
輸出電壓 | ±12V |
輸出電流 | ±1A (標(biāo)配) |
恒電位帶寬 | 1 MHz |
穩(wěn)定性設(shè)定 | 高速/高穩(wěn)定性 (可根據(jù)具體試驗(yàn)設(shè)置) |
切換速度 | >8V/µs |
上升時(shí)間 (-1.0V to +1.0V) | <350 ns |
電位控制 (恒電位模式) | |
施加電位范圍 | ±10V |
施加電位分辨率 | for ±10mV signal = 300nV for ±100mV signal = 3µV for ±1V signal = 30µV for ±10V signal = 300µV |
施加電位精度 | ±0.2% of value ±2mV |
掃速 | 5000 Vs-1 (50 mV step) |
掃速范圍及精度 | ±10V / 300µV |
電流控制 (恒電流模式) | |
施加電流范圍 | ±1A (標(biāo)配), ±2A (內(nèi)置選配) |
施加電流分辨率 | ±1/32,000 x 全量程 |
施加電流精度 | ±0.2% of reading, ±0.2% of range |
電流量程/分辨率 | ±1A / 60µA |
最小電流量程/分辨率 | ±4nA / 120fA |
差分靜電計(jì) | |
輸入范圍 | ±10V |
帶寬 | ≥10MHz (3dB) |
輸入阻抗 | ≥1012 Ω in parallel with ≤5pF (typical) |
漏電流 | ≤5pA at less than 25°C |
CMRR | 60 dB at 100kHz (typical) |
電位測(cè)量 | |
電位測(cè)量范圍 | ±10V |
最小電位分辨率 | 6µV |
電位精度 | ±0.2% of reading ±2mV |
電流測(cè)量 | |
電流測(cè)量范圍 | 自動(dòng)量程 (10 量程) 1A to 4 nA (8 量程) 2A to 4nA (內(nèi)置選配) |
電流分辨率 | 120fA (4nA 量程) |
電流精度 (DC) | 20nA to 2A: ±0.2% of reading, ±0.2% of range 4nA: <0.5% ±20pA |
帶寬 | 1MHz (signal ≥2mA range typical) |
帶寬噪聲濾波功能 | 有, 5檔 |
阻抗模塊 (EIS) 選件 | |
模式 | 電位控制/電流控制 |
頻率范圍 | 10µHz to 1MHz |
最小交流電壓幅值 | 0.1mV RMS |
掃描方式 | 線性 or 對(duì)數(shù) |
iR 補(bǔ)償 | |
正反饋 | 有 |
動(dòng)態(tài) iR 補(bǔ)償 | 有 |
接口 (標(biāo)配) | |
數(shù)字輸入/數(shù)字輸出 | 5 TTL logic 輸出, 2 TTL logic 輸入 |
輔助電壓輸入 | 同步測(cè)量電壓及電流; ±10V 范圍, 輸入阻抗10kΩ; Filter: off, 1kHz, 200kHz; BNC connector |
數(shù)模轉(zhuǎn)換 電壓輸出 (標(biāo)配) | ±10V 范圍, 輸出阻抗1kΩ; BNC connector (用于攪拌器，旋轉(zhuǎn)盤電極等) |
計(jì)算機(jī) / 軟件 | |
通訊接口 | USB模式 |
操作系統(tǒng) | Windows XP Professional (preferred) or Windows 2000 / VISTA / Windows 7 |
PC 配置 (至少需求) | Pentium 4 (1GHz) / 1GB memory 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存 |
軟件 | VersaStudio |
常規(guī) | |
電壓 | 250VA Max. Voltage range 90Vac to 250Vac, 50-60Hz |
尺寸（長(zhǎng)X寬X高） | 16¼” x 15¼” x 3½” 421 x 387 x 89mm |
重量 | 10lbs, 4.5kgs |
使用環(huán)境溫度 | 10°C to 50°C |
濕度 | Maximum 80% non-condensing |
理想溫度 | 25°C |
Dummy Cell 模擬電解池 | 內(nèi)置 (DC only) |
CE 認(rèn)證 | 通過 |
2A 大電流選項(xiàng) | 型號(hào) |
±2A 大電流選項(xiàng)，支持化學(xué)電池、燃料電池及電鍍應(yīng)用 | 2A/VersaSTAT4 |
FRA 頻率響應(yīng)選項(xiàng) | |
內(nèi)置頻率響應(yīng)選項(xiàng)，滿足電化學(xué)阻抗分析，頻率范圍10µHz to 1MHz | FRA/VersaSTAT4 |
高級(jí)混合輸入接口Advanced Auxiliary Interface | |
此 AAI 選項(xiàng)，允許附加一個(gè)帶有4個(gè)A/D轉(zhuǎn)換輸入接口，使得Versastudio software 通過VersaSTAT主機(jī)獲得更多記錄數(shù)據(jù)。 | AAI/VersaSTAT4 |
電流放大器 | |
在電流放大及通常操作模式之間轉(zhuǎn)換，僅需簡(jiǎn)單的電纜連接。 | 8A/VersaSTAT4 10A/VersaSTAT4 20A/VersaSTAT4 |
電化學(xué)池選件 | |
Corrosion Cell Kit 腐蝕電解池 | K0047 |
Corrosion Flat Cell 平板電解池 | K0235 |
Micro-Cell Kit 微電解池 | K0264 |
Analytical Cell Kit 分析電解池 | RDE0018 |
Tait Cell 涂層評(píng)價(jià)池 | K0307 |
輔助附件 | |
滴汞儀附件 | 303A |
model 303A 滴汞儀附件接口 | 507 |
石英晶體微天平 | QCM922 |
旋轉(zhuǎn)盤電極 | 616 |
旋轉(zhuǎn)環(huán)盤電極 | 636 |
VersaStudio 軟件 四種不同功能的 VersaStudio software造就四種VersaSTAT電化學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng):
的V3－Studio軟件支持全系列V3電化學(xué)工作站，包括大電流擴(kuò)展和電流放大設(shè)備。各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件結(jié)合，使V3－Studio可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究，并且通過不同的預(yù)算不斷升級(jí)。 軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法，它不但功能強(qiáng)大，而且便于新手學(xué)習(xí)使用。
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開路電位 | 方波伏安 | 控制電位阻抗 |
線性掃描 | 差分脈沖伏安 | 控制電流阻抗 |
循環(huán)伏安 (單次) | 常規(guī)脈沖伏安 | Loop循環(huán)實(shí)驗(yàn) |
循環(huán)伏安 (多次循環(huán)) | 反相常規(guī)脈沖伏安 | 延時(shí)功能 |
階梯線性掃描 | 零阻計(jì)（電化學(xué)噪聲） | 信息提示功能 |
階梯循環(huán)伏安 (單次) | 電偶腐蝕 | 開路電位測(cè)試功能 |
階梯循環(huán)伏安 (多次) | 循環(huán)極化 | 輔助輸入界面 |
計(jì)時(shí)電流 | 線性極化 | 外部應(yīng)用觸發(fā) |
計(jì)時(shí)電位 | Tafel塔菲爾曲線 | DAC 輸出控制 |
計(jì)時(shí)電量 | 恒電位 | 電極表面預(yù)處理 |
快速電位脈沖 | 動(dòng)電位 | 預(yù)沉積 |
快速電量脈沖 | 恒電流 | 系統(tǒng)平衡 |
周期電位脈沖 | 動(dòng)電流 | 系統(tǒng)凈化 |
周期電量脈沖 | 動(dòng)態(tài) iR | iR補(bǔ)償測(cè)量 |
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