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導波雷達物位計

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更新時間：2023-08-23 13:35:33瀏覽次數(shù)：205次

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產(chǎn)品簡介

適用于過程工業(yè)工況下的液位測量，如高溫、高壓等場合。即使液面出現(xiàn)波動、產(chǎn)生泡沫或當儲罐內(nèi)有障礙物產(chǎn)生干擾時，也能保持的測量值。導波雷達物位計用于液體、漿料和泥漿的連續(xù)物位測量以及界面測量。測量值不受介質(zhì)變化、溫度變化、氣體覆蓋或蒸汽的影響。特點/應(yīng)用桿式探頭、纜式探頭、同軸探頭內(nèi)置數(shù)據(jù)存儲單元，出廠預標定，可靠測量：波動液面+泡沫，變化介質(zhì)界面測量清晰的液/液界面；同時測量界面和總液面高......

詳細介紹

產(chǎn)品規(guī)格：導波雷達物位計

詳細介紹：

原理

導波雷達發(fā)出的高頻微波脈沖沿著探測組件（鋼纜或鋼棒）傳播，遇到被測介質(zhì)，由于介電常數(shù)突變，引起反射，一部分脈沖能量被反射回來。發(fā)射脈沖與反射脈沖的時間間隔與被測介質(zhì)的距離成正比。

容器中存在兩種不同介質(zhì)，當上面一層的介質(zhì)介電常數(shù)較小，而下面的介質(zhì)介電常數(shù)較大時，高頻微脈沖沿著探測組件傳播遇到上層介質(zhì)時，由于其介電常數(shù)較小，因而有極少的能量被這一層介面反射，而大部分能量穿透上層介質(zhì)繼續(xù)向下傳播，遇到兩層的介面時，由于下層介質(zhì)的介電常數(shù)較大，因而會有較大的能量被反射回來。因而導波雷達是可以測量兩種不同介質(zhì)的介面，其測量條件是上層介質(zhì)不導電或其介電常數(shù)比下層介質(zhì)介電常數(shù)小10以上。

特點

由于采用了*的微處理器和的EchoDiscovery回波處理技術(shù)，導波雷達物位計可以應(yīng)用于各種復雜工況。

多種過程連接方式及探測組件的型式，使得GDGW5X系列導波雷達物位計適于各種復雜工況及應(yīng)用場合。如：高溫、高壓及小介電常數(shù)介質(zhì)等。

采用脈沖工作方式，導波雷達物位計發(fā)射功率極低，可安裝于各種金屬、非金屬容器內(nèi)，對人體及環(huán)境均無傷害。

關(guān)鍵詞：物位計

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