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單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）

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更新時間：2023-06-30 21:06:43瀏覽次數(shù)：354次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產(chǎn)品簡介

單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）

詳細介紹

產(chǎn)品簡介：單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）是一種用等離子體激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，利用低溫等離子體作為能量源，通入適量的反應氣體，利用等離子體放電，使反應氣體激活并實現(xiàn)化學氣相沉積的技術(shù)。該系統(tǒng)為單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝研發(fā)設備，用于生長納米線或用CVD，方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

產(chǎn)品名稱

單室等離子增強化學氣相沉積（PECVD）

安裝條件

1、環(huán)境溫度：10℃～35℃

2、相對濕度：不大于75%

3、供電電源：220V、單相、50±0.5 Hz

4、設備功率：小于4KW

5、供水：水壓0.2MPa～0.4MPa,水溫15℃～25℃，

6、設備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。

技術(shù)參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構(gòu)，手動前開門；
2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造（304），氬弧焊接，表面采用噴玻璃丸+電化學拋光鈍化處理配有可視觀察窗口，并帶擋板，真空室尺寸為Φ300mm×300mm；

3、極限真空度：8.0x10^-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后，采用600L/S分子泵抽氣，前級采用4L/S)；系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10^-7Pa.l/S；系統(tǒng)從大氣開始抽氣到8.0x10^-⁴ Pa，40分鐘可達到；停泵關(guān)機12小時后真空度：≤5 Pa；
4、采用樣品在下，噴淋頭在上的電容式耦合方式進氣；
5、樣品加熱溫度：500℃，溫控精度：±1°C，采用溫控表進行控溫；
6、噴淋頭尺寸：Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距10-65mm在線連續(xù)可調(diào)（可根據(jù)工藝調(diào)整），并帶有標尺指數(shù)顯示；
7.、沉積工作真空：13.3-133Pa（可根據(jù)工藝調(diào)整）；
8、射頻電源：頻率 13.56MHz，功率300W全自動匹配；
9、氣體種類（用戶自備），標準配置為2路100sccm質(zhì)量控制器，用戶可根據(jù)工藝更改氣路配置；