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更新時(shí)間：2023-03-05 08:30:13瀏覽次數(shù)：238次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 環(huán)保在線產(chǎn)品介紹等離子清洗機(jī)原理及特性：由高能高活性粒子(電子、離子、自由基、光子、中性粒子)組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)
等離子清洗機(jī)原理及特性：
由高能高活性粒子( 電子、離子、自由基、光子、 中性粒子) 組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、 液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)。等離子體中的粒子活性高，很容易和固體表面發(fā)生反應(yīng)。通常等離子清洗技術(shù)對(duì)于分子級(jí)別的污染物去除效果明顯，通過等離子清洗將會(huì)顯著增加物體的表面能，改善浸潤特性和粘合性。
等離子清洗屬于一種高精密的干式清洗方式，原理是在真空狀態(tài)下利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將 氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，通過化學(xué)反應(yīng)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理，實(shí)現(xiàn)分子水平的沾污去除（一般厚度為 3 ～ 30nm），提高表面活性。對(duì)應(yīng)不同的污染物，應(yīng) 采用不同的清洗工藝，達(dá)到的清洗效果。清洗原理見圖 2、圖 3、圖 4 及反應(yīng)式 ：
化學(xué)清洗 : 表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。
例 1 ：O2+e_→ 2O※+e?–
O※+ 有機(jī)物→ CO2+H2O （1）
氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變 成易揮發(fā)的 H2O 和 CO2，見圖 2。
例 2 ：H2+e_→ 2H※+e?–
H※+ 非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬 +H2O （2）
氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化 層，清潔金屬表面，見圖 3。
物理清洗 ：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗。
例 ：Ar+e_→ Ar ++2e?–
Ar++ 沾污→揮發(fā)性沾污 （3）
Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能， 轟擊清洗工件表面，去除微顆粒污染物，同時(shí)進(jìn)行表 面能活化，見圖 4。
液體在固體材料表面上的接觸角, 是衡量該液體對(duì)材料表面潤濕性能的重要參數(shù)，若θ<90°，則固體表面是親水性的，其角越小，表示潤濕性越好；若θ>90°，則固體表面是疏水性的。
達(dá)因值的測量在印刷、涂層、覆膜、焊接等應(yīng)用非常常見，可反映出材料表面容不容易結(jié)合，一般而言，達(dá)因值越大，表面與另一種材料的結(jié)合性能越佳。
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