3噸/小時二級反滲透純凈水設(shè)備主要用途
1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機(jī)硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水。
2、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
3、制取醫(yī)藥工業(yè)所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等。
4、制取飲料(含酒類)行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水,酒類釀造水和勾兌用純水。
5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水。
6、制取電鍍工藝用去離子水;電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水;汽車、家用電器、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗沌水;鍍膜玻璃用純水;紡織印染工藝所需的除硬除鹽水。
7、石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水;化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過程用工藝。
8、賓館、樓宇、社區(qū)機(jī)場房產(chǎn)物業(yè)的優(yōu)質(zhì)供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化。
9、線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用。
1、3噸/小時二級反滲透純凈水設(shè)備設(shè)計依據(jù)及處理水標(biāo)準(zhǔn):
1.1原水:市政自來水。
1.2產(chǎn)水用途:生產(chǎn)用超純水。
1.3產(chǎn)水量:二級反滲透出水水量≥3.5 m3/h,EDI出水水量≥3 m3/h。
1.4出水水質(zhì):二級反滲透出水電導(dǎo)率≤5μs/cm,EDI出水電阻率≥15MΩ.CM, 總出水電阻率≥18MΩ.CM。
1.5系統(tǒng)配置:全自動預(yù)處理+二級反滲透除鹽+EDI精除鹽+終端處理。
1.6運(yùn)行方式:自動控制運(yùn)行。
1.7設(shè)計界線:從原水箱出口至用水點(diǎn)(詳見工藝流程圖)。
1.8設(shè)備工藝參數(shù)滿足《工業(yè)用水軟化除鹽設(shè)計規(guī)范》(GBJ109-87)。
1.9設(shè)備安裝調(diào)試滿足《給水排水工程施工驗(yàn)收規(guī)范》(GB1328-1995)。
1.10其它涉及的設(shè)計基礎(chǔ)條件將在技術(shù)討論中確定。
2、3噸/小時二級反滲透純凈水設(shè)備對外界要求:
2.1進(jìn)水管:進(jìn)水管接至原水箱入口。
2.2供電纜:根據(jù)算出的容量,用戶將動力電分別送至操作控電控柜上。
2.3出水管:至用水點(diǎn)。(詳見工藝流程圖)。
2.4地基要求:地基承載力≥5噸/平方
2.5廢水處理:排至廠房內(nèi)地溝(用戶考慮)。
2.6系統(tǒng)水溫:常溫。
3、3噸/小時二級反滲透+EDI設(shè)備超純水設(shè)備工藝流程示意圖
本工藝包括預(yù)處理部分、二級反滲透部分、EDI部分。