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鄭州科探儀器設備有限公司
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更新時間：2024-05-03 08:14:19瀏覽次數(shù)：148次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD是鄭州科探儀器設備有限公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。軟件自動操控、工藝儲存，高性價比，非常適合實驗室科研使用。稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等。
一、技術原理：
（1）小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
（2）通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。
二、真空度越高越不易氧化越接近金屬本色：
★玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；
★復合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準無油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；
★兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計；
★專業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻；
★可沉積金屬（Au,Ag,Al,Ca,Cu,Mg,Fe,Cr,Ni等）、非金屬、化合物（MoO3,LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★7寸顯示器定時定點調節(jié)電流，達到控制功率效果；
★具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數(shù)據(jù)進行鍍膜達到同樣工藝效果；
★配置了靶臺擋板，可手動調節(jié)或自動調節(jié)擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果；
三、技術支持&服務：
1.技術支持：在合同簽訂之前，我們的專業(yè)工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設計，使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。
2.安裝與培訓：在產品使用前，我們會派專業(yè)工程師為您提供現(xiàn)場技術支持、培訓及演示服務。
3.產品質保：我們對產品提供12個月的質保期，在質保期內發(fā)生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。（耗材和易損件除外）
4.終身維護：我們對提供的產品提供終身服務，對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費，免除一切人工費用。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
四、小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD技術資料：
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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