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半導(dǎo)體工業(yè)用超純水制取去離子設(shè)備純水設(shè)備

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產(chǎn)品型號JH1-100

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更新時(shí)間：2022-08-04 10:48:46瀏覽次數(shù)：256次

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君浩環(huán)保集團(tuán)（西安）有限公司

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聯(lián)系人：李靜華（運(yùn)營）

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產(chǎn)品簡介

源水供水壓力	0.25-0.6mpa	工作電壓	220V/380V
工作壓力	0.8-1.5Mpa	脫鹽率	≥99.5%
回收率	65%-85%

半導(dǎo)體工業(yè)用超純水制取去離子設(shè)備純水設(shè)備
半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)18MΩ.cm以上

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體超純水設(shè)備是應(yīng)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)零件清洗的超純水設(shè)備，需要符合特定的用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),半導(dǎo)體超純水設(shè)備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

半導(dǎo)體工業(yè)用超純水制取去離子設(shè)備純水設(shè)備

半導(dǎo)體(semiconductor)，指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是較常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。

電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術(shù)，離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點(diǎn)，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。這種*技術(shù)的環(huán)保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認(rèn)可，也愈來愈多廣泛地在醫(yī)藥、電子、電力、化工等行業(yè)得到推廣。

半導(dǎo)體工業(yè)用超純水制取去離子設(shè)備純水設(shè)備

EDI超純水設(shè)備的主要特點(diǎn)：

1.產(chǎn)水水質(zhì)高而具有較佳的穩(wěn)定度高

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。

3.模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放。

5.無酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運(yùn)。

6.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

7.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。

8.運(yùn)行操作簡單，勞動強(qiáng)度低

關(guān)鍵詞：超純水設(shè)備純水設(shè)備凈水設(shè)備