主要特點

一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經典的閉環(huán)負反饋控制系統(tǒng)，控溫儀表選用智能型程序溫度調節(jié)儀表控溫，電力調制器控制；負載采用小電壓大電流控制，從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命，測溫元件采用 K 型熱偶。30段可編程控溫，PID參數(shù)自整定，操作界面為10寸工控電腦，內置PLC控制程序，可將溫控系統(tǒng)、滑軌爐滑動（時間和距離）設定為程序控制。同時系統(tǒng)設置了超溫、 欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經驗的要求，關鍵電氣元件采用優(yōu)質的進口產品，做到高性能、免維護，提高了設備質量的可靠性。

二、PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm³電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術。通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式,低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單。

技術參數(shù)