主要特點(diǎn)
微型滑軌式PECVD系統(tǒng)，電源范圍寬：0-100W可調(diào)；溫度范圍寬：100-1200度可調(diào)；濺射區(qū)域?qū)挘赫芸烧{(diào)；其精致小巧，性?xún)r(jià)比*，滑軌式設(shè)計(jì)使用滑軌爐實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫，是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品型號(hào)： | BTF-1200C-S-SL-PECVD |
實(shí)驗(yàn)機(jī)理： | PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)。通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡(jiǎn)單。 |
技術(shù)參數(shù)： | 開(kāi)啟式真空管式滑軌爐 反應(yīng)腔體尺寸：Φ25、Φ50x1200mm 加熱元件：電阻絲（Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo） 加熱區(qū)長(zhǎng)度：230mm 恒溫區(qū)長(zhǎng)度：100mm（±1℃） 工作溫度：1100℃ Z高溫度：1200℃ 控溫方式：模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報(bào)警功能 控溫精度：±1℃ 升溫速率：10℃/min 爐門(mén)結(jié)構(gòu)：開(kāi)啟式 工作電源：AC220V /50HZ 額定功率：2.5KW |
真空泵和閥門(mén) 采用KF25系列波紋管和手動(dòng)擋板閥； 真空度可達(dá)10-3torr； 數(shù)顯真空測(cè)試儀可直觀的顯示數(shù)值。 | |
質(zhì)量流量計(jì)控制氣路系統(tǒng)（可來(lái)圖訂制） 內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量； 氣體流量范圍可選，誤差為±1.5%； 一個(gè)氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥； 不銹鋼針閥安裝在左側(cè)可手動(dòng)控制混合氣體輸入。 | |
射頻電源與匹配器 電源：?jiǎn)蜗?0/60Hz 220v±10% 加熱（功率）電源：2.5KW，25A 控制柜電源空氣開(kāi)關(guān)：32A空氣開(kāi)關(guān) 薄膜生長(zhǎng)室溫度：室溫~ 1200℃ 信號(hào)頻率：13.56 MHz±0.005% 射頻功率輸出范圍：0~100W | |
外型尺寸： | 爐體：550×380×600mm 爐體加滑軌1500x380x620mm 供氣及真空系統(tǒng)：600×600×600mm |
凈重： | 100Kg |
認(rèn)證和 | CE認(rèn)證 號(hào)：ZL.0 （產(chǎn)品 ，防偽必究） |
環(huán)保在線(xiàn)