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重慶開衡科技有限公司

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卷對卷石墨烯連續(xù)生長設備 實驗室臭氧發(fā)生機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時間:2023-05-29 16:53:36瀏覽次數(shù):149次

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主要特點Mainfeature?Underthevacuumcondition

主要特點

Main feature

? Under the vacuum condition , a RF power supply acts on the rare gas in the vacuum chamber to form the plasma equivalent glow effect ( PECVD patent of our company ) , and the field energy of the plasma replaces the thermal energy , so that the growth temperature of the graphene is reduced , and the process conditions are improved .

該設備在真空條件下,通過射頻電源作用于真空腔室內(nèi)的稀薄氣體,形成等離子體等效輝光作用下(本公司PECVD),利用等離子體的場能部分代替了熱能,從而降低石墨烯生長溫度,改善工藝條件。

? Achieve growth of high quality graphene thin films by controlling nucleation and growth of graphene

通過對石墨烯成核與生長的調(diào)控實現(xiàn)高品質(zhì)石墨烯薄膜生長

? In this method, copper foil is used as a base, motor drives copper foil to move under closed growth condition, and then it passes through the first temperature zone (annealed area). Graphene will deposit on the copper foil on the second, third temperature zone (growth area)and tighten to the roll by the cooling device 該方法使用銅箔作為基底,電機帶動銅箔在密閉生長條件下運動,經(jīng)過溫區(qū)(退火區(qū))處理后的銅箔;在第二、第三溫區(qū)(生長區(qū))石墨烯將沉積在銅箔上,并通過冷卻裝置后收緊成卷。

? With the advantages of rapid cooling and continuous growth, and can be used for large-scale growth of graphene with large area and high quality.

相對于現(xiàn)有技術(shù)具有快速冷卻、連續(xù)生長的優(yōu)點,可以進行大面積、高質(zhì)量石墨烯的規(guī)?;L。

技術(shù)參數(shù)


Voltage

輸入電源

· Furnace input AC 208-240V ,50/60 Hz

輸入電壓 110V/220V 50/60 HZ

Power

功率

6KW

Working Temperature

工作溫度

· Max. Temperature: 1200 °C (< 1 hr)

Z高溫度:1200℃(< 1 hr)

· Continuous working temperature: 1100 °C

持續(xù)工作溫度:1100℃

Heating Zone

加熱區(qū)

· Heating Zone Length: 7.87" ( 200+200+200mm)

加熱區(qū)長度:7.87"( 200+200+200mm)

· Constant Temperature Zone: 15.74 " (400mm. +/- 1oC )

恒溫區(qū)長度:15.74 " (400mm. +/- 1oC )

Heating Elements

加熱元件

· Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo

電阻絲(摻鉬鐵鉻鋁合金)

Processing Tube

爐管

· High purity quartz tube: 100 mm OD x 1700 mm Length

石英管:100(外徑)*1700(長)mm

Copper foil width

銅箔基底寬度

80mm

Copper foil running rate

銅箔前行速度

8cm/min---50cm/min 可調(diào)

Adjustable

RF Signal frequency

射頻信號頻率

13.56MHz±0.005%W

Power output

功率輸出范圍

0-500W

Vacuum Dgree

真空度

10-1Pa

Dimensions

尺寸

280*60*130cm

Warranty

質(zhì)保

One year limited warranty with lifetime support (Consumable parts such as processing tubes, and O-rings are not covered by the warranty, please order replacements at related products below.)

一年質(zhì)保終身支持(消耗品如爐管,O型圈不在質(zhì)保范圍內(nèi))

Application Note

應用

· Equipped with high precision mass flowmeter in the gas system,can control the gas flow

氣路系統(tǒng)內(nèi)部裝有高精度質(zhì)量流量計可準確的控制氣體流量

· Gas can mix sufficient in required proportion in the static mixing chamber,

設靜態(tài)混氣室,有助于氣體充分混合,按要求配比

· Can match R-T-R laminating & stripping equipment as below:

配套石墨烯卷對卷覆膜、剝離設備如下圖

Details

細節(jié)圖片

· Overall structure

整體結(jié)構(gòu)

· District

分區(qū)


智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)(型號:BTF-1200C-II-A

主要特點:一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經(jīng)典的閉環(huán)負反饋控

三溫區(qū)智能型等離子體化學沉積系統(tǒng)(BTF-1200C-III-500A

主要特點:此款智能型等離子體增強化學沉積系統(tǒng)的高溫真空爐加熱腔體采用進

連續(xù)進出料等離子體增強回轉(zhuǎn)設備-BTF-1200C-RP-PECVD

主要特點該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)(PECVD)

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