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近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)（NH3）

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更新時間：2022-11-26 12:59:15瀏覽次數(shù)：95次

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北京大方科技有限責(zé)任公司

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產(chǎn)品簡介

近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述針對脫硝氨逃逸在線監(jiān)測產(chǎn)品要求，大方科技結(jié)合在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗，開發(fā)近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)

詳細介紹

近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)

一、項目概述

針對脫硝氨逃逸在線監(jiān)測產(chǎn)品要求，大方科技結(jié)合在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗，開發(fā)近位抽取激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)。測量單元主要部分安裝在煙道壁外，抽取的氣體直接進入氣室，不需要經(jīng)過伴熱管線，而儀表系統(tǒng)通過光纜控制氣室，可放置在室內(nèi)，避免了惡劣的外部環(huán)境。該產(chǎn)品實現(xiàn)了原位和抽取測量的結(jié)合。

二、測量原理

系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進行NH₃的測量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH₃分子吸收導(dǎo)致的激光光強衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關(guān)系，從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH₃濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有的測量精度。

朗伯比爾定律：

其中光譜吸收系數(shù)：

三、測量方案

根據(jù)脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，方案采用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長光程測量池技術(shù)，并進行一體化設(shè)計，設(shè)備直接安裝在煙道上，空間占用小。

系統(tǒng)由取樣分析單元和儀表組成，取樣分析單元安裝于煙道上，煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進入設(shè)備樣氣室進行測量分析，無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應(yīng)時間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達30米，可大大提高檢測下限。

四、系統(tǒng)特點

1 采用TDLAS技術(shù)，不受背景氣體影響

系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要

系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù)，并且進行動態(tài)的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。

3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失

抽取氣體直接進入氣室，不需要經(jīng)過伴熱管線，煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點，避免氨氣吸附和損失，保證樣氣真實性。

4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度

系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù)，光程可達30米，極大地提高了測量精度。

5 可靠性高，運行穩(wěn)定

分析系統(tǒng)無任何運動部件，極大地增強了可靠性。經(jīng)預(yù)處理抽取測量，儀器壽命長，維護方便，運行費用低。自動反吹控制，反吹間隔和反吹時長根據(jù)工況設(shè)置，有效避免濾芯堵塞。

6 安裝使用方便

分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下，模塊化設(shè)計，安裝方便，開機預(yù)熱后便可正常運行無需進行現(xiàn)場光路調(diào)試。濾芯采用覆膜工藝制造，后置安裝，無需專業(yè)工具拆卸，更換和清理極其方便。

7 技術(shù)，便于維護光學(xué)器件

大方科技*的樣氣室設(shè)計，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學(xué)器件進行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復(fù)功能

大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權(quán)

大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年，針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點進行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權(quán)，對產(chǎn)品擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應(yīng)用：

大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測；

工業(yè)鍋爐脫硝氨逃逸監(jiān)測；

煉焦企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測。

關(guān)鍵詞：工業(yè)鍋爐

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