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總排口專用氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)(NH3)

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更新時間：2022-11-26 12:55:46瀏覽次數(shù)：83次

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產(chǎn)品簡介

總排口專用氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)一、項(xiàng)目概述針對總排口固定污染源氨逃逸在線監(jiān)測的技術(shù)要求，本方案結(jié)合大方科技在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗(yàn)，研制開發(fā)環(huán)保型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)，專用于總排口固定污染源氨逃逸的實(shí)時在線監(jiān)測，并將數(shù)據(jù)實(shí)時傳送至DCS

詳細(xì)介紹

總排口專用氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)

一、項(xiàng)目概述

針對總排口固定污染源氨逃逸在線監(jiān)測的技術(shù)要求，本方案結(jié)合大方科技在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗(yàn)，研制開發(fā)環(huán)保型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)，專用于總排口固定污染源氨逃逸的實(shí)時在線監(jiān)測，并將數(shù)據(jù)實(shí)時傳送至DCS。設(shè)備改變傳統(tǒng)分體方式，采用一體化設(shè)計(jì)，占用空間小，安裝維護(hù)方便，測量精度高，滿足環(huán)保監(jiān)管對設(shè)備的要求。

二、測量原理

系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進(jìn)行NH₃的測量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH₃分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系，從而實(shí)現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH₃濃度。因?yàn)榧す庾V寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有的測量精度。

朗伯比爾定律：

其中光譜吸收系數(shù)：

三、測量方案

根據(jù)固定污染源氨逃逸測量點(diǎn)溫度不高、測量濃度低、測量精度要求高等特點(diǎn)，方案沿用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長光程測量池技術(shù)，并進(jìn)行一體化設(shè)計(jì)，設(shè)備直接安裝在煙道上，空間占用小。

系統(tǒng)由取樣分析單元和儀表組成，一體化設(shè)計(jì)，安裝于煙道上，煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進(jìn)入設(shè)備樣氣室進(jìn)行測量分析，無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應(yīng)時間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達(dá)20米，可大大提高檢測下限。

四、系統(tǒng)特點(diǎn)

1 采用TDLAS技術(shù)，不受背景氣體影響

系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。

2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要

系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù)，并且進(jìn)行動態(tài)的補(bǔ)償，實(shí)時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。

3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失

抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。

4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度

系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù)，光程可達(dá)20米，極大地提高了測量精度。

5 可靠性高，運(yùn)行穩(wěn)定

分析系統(tǒng)無任何運(yùn)動部件，極大地增強(qiáng)了可靠性。分析儀采兩級菜單操作，人機(jī)交互界面友好，根據(jù)界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。經(jīng)預(yù)處理抽取測量，儀器壽命長，維護(hù)方便，運(yùn)行費(fèi)用低。

6 安裝調(diào)試靈活

分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下，模塊化設(shè)計(jì)，安裝方便，開機(jī)預(yù)熱后便可正常運(yùn)行無需進(jìn)行現(xiàn)場光路調(diào)試。

7 技術(shù)，便于維護(hù)光學(xué)器件

大方科技*的樣氣室設(shè)計(jì)，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護(hù)更加快速方便。

8 儀表自檢及自恢復(fù)功能

大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。

9 自主知識產(chǎn)權(quán)

大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年，針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點(diǎn)進(jìn)行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項(xiàng)發(fā)明和軟件著作權(quán)，對產(chǎn)品擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。

五、典型應(yīng)用：

總排口氨逃逸濃度的實(shí)時在線監(jiān)測

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