化工高純水裝置中膜元件被污染表現(xiàn)及處理——蘇州超純水設(shè)備
水的純度通常是以水中所含雜質(zhì)的相對含量來表示的。但當水的純度達一定水平后,水中的雜質(zhì)總量已很少了,(蘇州反滲透純水設(shè)備)個別雜質(zhì)的濃度更低,有些已不易檢出。在這種情況下,常用水的電導率(或電阻率)來表示水的純度。因為純水中H+和OH-離子的濃度都是10-7 mol/L,其電導率很低,幾乎不導電。而當水中含有某些雜質(zhì)(如可溶性鹽)時,由于雜質(zhì)離子能導電,使其電導率迅速上升。因此水的電導率是與其純度密切相關(guān)的。
高純水是化學純度*的水,是指將水中的導電介質(zhì)幾乎全部去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機物均去除至很低程度的水,其中雜質(zhì)的含量小于0.1 mg/L,電導率小于0.1 μS/cm, pH在.~7.0之間。人們制成的高純水的純度已經(jīng)達到99.999999%,其中雜質(zhì)含量低于0.01 mg/L [2] 。
化工高純水裝置中膜元件被污染表現(xiàn)及處理——蘇州超純水設(shè)備廠家小編來為大家娓娓道來:
1.碳酸鹽垢:

膜表面濃差增加,標準滲透水流量下降,或是脫鹽率下降?! ?/div>
2.鐵/錳污染后的表現(xiàn):
標準壓差升高,也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
.硫酸鹽垢:
若發(fā)生沉積,首先影響鹽濃度高的系統(tǒng)后面的膜元件,表現(xiàn)為二段壓差明顯升高。需要用專用清洗劑。
4.硅污染的表現(xiàn):
4.1顆粒硅:污堵膜元件水流通道,導致系統(tǒng)壓差升高。
采用0.4二氯胺對于溶解嚴重污染的硅垢是有效的(去離子水設(shè)備)?! ?/div>
4.2膠硅:與顆粒硅相似?! ?/div>
4.溶解硅:形成硅酸鹽析出,應采用二氯胺清洗?! ?/div>
5.懸浮物/有機物污堵表現(xiàn):
透水量下降,一段壓差明顯升高。若給水SDI大于4或濁度大于1,有機物污染的可能性較大?! ?/div>
.微生物污堵表現(xiàn):
標準壓差升高或標準透水量下降??刹捎梅茄趸詺⒕鷦┘訅A進行清洗?! ?/div>
7.鐵細菌污堵表現(xiàn):
標準壓差升高??刹捎免c鹽加堿進行清洗。
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