ZYMP-2自動雙盤臺式金相試樣研磨拋光機(jī)是我公司按用戶需求開發(fā)研制推出的一款自動金相試樣研磨拋光制樣設(shè)備，研磨拋光時(shí)間采用倒計(jì)時(shí)數(shù)字顯示，在0～100min定時(shí)范圍內(nèi)任意給定。壓力按加載大小數(shù)字顯示，在O～200N加載范圍內(nèi)任意給定。磨盤轉(zhuǎn)速采用儀表顯示，在0～1400r/min范圍內(nèi)任意調(diào)節(jié)。工作時(shí)，磨盤在調(diào)速電機(jī)的驅(qū)動下旋轉(zhuǎn)，并根據(jù)一設(shè)定的壓力，按理想的加壓保壓和分段卸壓方式將夾持盤壓在轉(zhuǎn)動的磨盤上，從而能快速去除試樣表面的磨痕和消除變形層拋光時(shí)間到達(dá)后，磨盤停止轉(zhuǎn)動，夾持盤自動提升，從而實(shí)現(xiàn)無人監(jiān)控操作。本機(jī)可根據(jù)不同金屬材料的需要現(xiàn)場設(shè)置和存儲工作參數(shù)(速度、壓力和時(shí)間)，也可從存儲器中調(diào)用已事先設(shè)置的工作參數(shù)，具有很高的智能化程度。
■ ZYMP-2自動雙盤臺式金相試樣研磨拋光機(jī)主要參數(shù)：
| 產(chǎn)品型號 | ZYMP-2型自動雙盤、臺式金相試樣研磨拋光機(jī) |
| 研磨方式 | 自動研磨 |
| 研磨直徑 | Φ |
| 研磨盤數(shù)量 | 2只 |
| 研磨轉(zhuǎn)速 | 100～1400rpm/min無級調(diào)速 |
| 研磨功率 | 400W |
| 冷卻裝置 | 2套 |
| 研磨試樣數(shù)量 | 4個(gè)（一次可研磨試樣數(shù)） |
| 研磨規(guī)格 | 可選擇（Φ22mm、Φ30mm、Φ45mm及定制規(guī)格） |
| 氣壓壓力 | 2.3～ |
| 研磨頭轉(zhuǎn)速 | 20～120rpm/min無級調(diào)速 |
| 研磨頭加壓方式 | 氣體單獨(dú)加壓 |
| 操作界面 | 數(shù)字顯示、薄膜開關(guān)、可設(shè)定研磨轉(zhuǎn)速、 定時(shí)時(shí)間、轉(zhuǎn)向、水槽清洗等功能 |
| 顯示項(xiàng)目 | 運(yùn)轉(zhuǎn)速度、時(shí)間到計(jì)時(shí)、氣壓 |
| 加壓力量調(diào)節(jié)范圍 | 0～ |
| 研磨時(shí)間 | 可設(shè)定范圍0～100分鐘（可顯示剩余工作時(shí)間） |
| 研磨頭旋轉(zhuǎn)方向 | 可以按用戶需求、自行設(shè)定調(diào)整 |
| 研磨方向 | 可選擇正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn) |
| 試樣夾具 | 可快速進(jìn)行更換（快速裝拆功能） |
| 使用電源 | 220VAC |
| 耗用功率 | 1000W |
| 外形尺寸 | 長×寬×高：757×623×645mm |
| 重 量 | |
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