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北京歐波同
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北京歐波同
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更新時(shí)間：2021-06-29 17:09:09瀏覽次數(shù)：357次
聯(lián)系我時(shí)，請告知來自 環(huán)保在線Monarc 陰極熒光系統(tǒng)
品牌： GATAN | 名稱型號：MonoCL4新一代陰極發(fā)光系統(tǒng) |
制造商： GATAN公司 | 經(jīng)銷商：歐波同（中國）有限公司 |
免費(fèi)： | ： |
型號 450
Monarc™—重新定義了 SEM (掃描電子顯微鏡)上陰極熒光 (CL) 表征的能力。
通過突破性的光路設(shè)計(jì)，Monarc 具有顯著增加的靈敏度和譜分辨率，由此帶來的特色的波長-角度分辨能力，使您能夠進(jìn)行更為完整的陰極熒光（CL）表征分析工作。作為新一代的CL探測器，Monarc 為高要求的納米光子學(xué)（nanophotonics）、光電子學(xué)（optoelectronics）以及地質(zhì)科學(xué)等應(yīng)用領(lǐng)域帶來了全新的見解
性能優(yōu)點(diǎn)
快速獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)
? 以優(yōu)異的空間分辨率（<10 nm="" 1="" br="">（0.1 nm）采集 CL 數(shù)據(jù)
? 采集同時(shí)具有角度和波長分辨能力的 CL 數(shù)據(jù)
? 相較前代技術(shù)，以高達(dá)30倍的更快速度采集超光譜
（hyperspectral）數(shù)據(jù)
操作簡便
? 通過全自動(dòng)的光路對準(zhǔn)和基于配方驅(qū)動(dòng)的操作，得到優(yōu)化的結(jié)果
? 恒常對準(zhǔn)的光路為短期與長期工作帶來可重復(fù)的結(jié)果
? 大視野提高數(shù)據(jù)采集通量，并簡化用戶的工作流程
與其它信號的精確關(guān)聯(lián)
? 同時(shí)偵測多種信號，對物理性質(zhì)或成分信息與CL數(shù)據(jù)進(jìn)行關(guān)聯(lián)成像
? 不需折衷妥協(xié)——在進(jìn)行CL測量的同時(shí)，充分利用 SEM 的 in-lens探頭
圖 1. 該幅偏振過濾的 CL 圖像證明了 Monarc 能夠提供空間分辨率優(yōu)于10 nm 的 CL 數(shù)據(jù)。圖像來自尺寸在 100 nm 左右的星狀金納米顆粒兩組正交線性偏振發(fā)光的顏色疊加。
特色功能
? 角度分辨（angle-resolved CL，ARCL）：在遠(yuǎn)低于光學(xué)衍射極限的尺度上理解光與物質(zhì)的交互作用——相較前代技術(shù)，400x 更大視野，且不產(chǎn)生實(shí)際分辨率損失（申請中）
? 波長-角度分辨（wavelength- and angle-resolved CL, WARCL）：跨越多重觀察角度與波長，對光與物質(zhì)的交互作用進(jìn)行可視化——?dú)w功于*的光路設(shè)計(jì)，以前無法做到或非常難以實(shí)現(xiàn)的表征手段，在 Monarc 上成為常規(guī)工作
? 偏振過濾：獲知例如光波段擔(dān)任納米天線、光子晶體等深度次波長結(jié)構(gòu)的發(fā)光偏振性能
應(yīng)用領(lǐng)域
? 光電材料研發(fā)
? LED 和激光失效分析
? 顯示與照明
? 光-物質(zhì)交互作用基礎(chǔ)研究
? 納米光子學(xué)
? 光子晶體
? 地質(zhì)科學(xué)-痕量元素分布
? 光伏材料表征
? 熒光技術(shù)
Monarc 配備兩種不同型號，滿足不同應(yīng)用需求：
Monarc
適合于地質(zhì)科學(xué)與面分布成像應(yīng)用，Monarc 型號擁有不受譜分辨率影響的更大視野，并通過其新穎的波長過濾譜成像能力，提供更高空間采樣的超光譜數(shù)據(jù)采集，性能大大超越基于前代技術(shù)的 SEM CL 探測器。
Monarc Pro
對于納米光子學(xué)與光電子材料應(yīng)用，Monarc Pro 更為適用，由于其提供了更高的靈敏度與譜分辨率；并具備*的波長-角度分辨分析能力以及偏振過濾選項(xiàng)。
圖 2. 使用 Monarc 對含有 V-pit 缺陷的GaN/InGaN多重量子阱樣品采集獲得的復(fù)合波長過濾像，提取自超光譜數(shù)據(jù)塊 (紅色 = 504 ± 2 nm, 綠色 = 435 ± 2 nm, 紫色 = 365 ± 2 nm)。
圖 3. 運(yùn)用 Monarc *的波長-角度分辨采譜模式，對薄膜 InGaN基 LED 發(fā)光性能近乎完整的表征。發(fā)射光與反射光之間相互干涉形成了隨著發(fā)光波長而變化的發(fā)射圖樣。
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