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日本Shinkuu全自動(dòng)小型涂布機(jī)MSP-40T:實(shí)驗(yàn)室薄膜沉積的理想選擇

時(shí)間:2025-5-26閱讀:51
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  在材料科學(xué)、電子顯微鏡樣品制備以及納米技術(shù)研究中,精確的薄膜涂布是實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)和產(chǎn)品開發(fā)的關(guān)鍵步驟。日本Shinkuu公司推出的MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)以其高效、全自動(dòng)化的操作和薄膜沉積性能,成為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)環(huán)境中理想的涂布解決方案。
 
  一、技術(shù)參數(shù)
 
  設(shè)備類型:多用途實(shí)驗(yàn)沉積系統(tǒng),配備全自動(dòng)沉積功能。
 
  尺寸與重量:小型桌面型設(shè)計(jì),適合小空間使用。
 
  電源:AC100V,15A。
 
  真空系統(tǒng):配備渦輪泵和隔膜泵,可實(shí)現(xiàn)清潔的高真空環(huán)境。
 
  靶材:支持多種金屬靶材,包括金、銀、鉑、鎢等。
 
  沉積方式:通過強(qiáng)磁場實(shí)現(xiàn)高效薄膜沉積。
 
  二、功能特點(diǎn)
 
  全自動(dòng)操作:只需設(shè)置涂層時(shí)間并按下開始按鈕,即可自動(dòng)完成沉積過程,操作簡便。
 
  高效沉積:結(jié)合高速排氣系統(tǒng),能夠快速完成薄膜沉積,提高實(shí)驗(yàn)效率。
 
  高真空環(huán)境:通過渦輪泵和隔膜泵實(shí)現(xiàn)清潔的高真空,確保薄膜沉積的高質(zhì)量。
 
  多種靶材選擇:支持多種金屬靶材,滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。
 
  安全設(shè)計(jì):配備聯(lián)鎖功能,防止操作錯(cuò)誤。
 
  三、應(yīng)用場景
 
  MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:
 
  電子顯微鏡樣品制備:為掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)樣品提供高質(zhì)量的導(dǎo)電涂層。
 
  半導(dǎo)體制造:用于半導(dǎo)體制造過程中的薄膜沉積。
 
  納米材料研究:適用于納米薄膜、納米復(fù)合材料等研究。
 
  材料科學(xué):用于研究高性能薄膜材料的制備和性能。
 
  四、總結(jié)
 
  日本Shinkuu MSP-40T全自動(dòng)小型涂布機(jī)以其高效、全自動(dòng)化的操作和薄膜沉積性能,為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)環(huán)境中的薄膜制備提供了一個(gè)理想的解決方案。它不僅能夠滿足多種材料和應(yīng)用的需求,還能通過高真空環(huán)境和多種靶材選擇,確保薄膜沉積的高質(zhì)量。對于需要高效、精確薄膜沉積的用戶來說,MSP-40T無疑是一個(gè)值得信賴的選擇。

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