污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
天津國測航天科技有限責任公司
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更新時間：2023-06-02 13:33:33瀏覽次數(shù)：234次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線一、產(chǎn)品功能和用途：型號：GC-RZK-800 屬于高壓氣猝爐，是一種電阻加熱氣冷爐，采用真空輻射方式加熱，氣體快速冷卻，氣體冷卻壓力可調(diào)且壓力大于6bar(絕壓)的熱處理設(shè)備，該設(shè)備可用于淬火、退火、回火、固溶、時效等真空熱處理工藝
一、產(chǎn)品功能和用途：
型號：GC-RZK-800
屬于高壓氣猝爐，是一種電阻加熱氣冷爐，采用真空輻射方式加熱，氣體快速冷卻，氣體冷卻壓力可調(diào)且壓力大于 6bar(絕壓)的熱處理設(shè)備，該設(shè)備可用于淬火、退火、回火、固溶、時效等真空熱處理工藝。真空熱處理快率爐由真空室、抽真空系統(tǒng)、壓力測量裝置、加熱風、保溫隔熱屏、高壓氣淬系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)及試驗臺架組成
1、 為熱處理作業(yè)提供高真空環(huán)境，滿足高真空熱處理的真空度需求，真空腔室為不銹鋼爐膛，配備干泵、分子泵組成的真空泵組，禁止使用油泵。
2、為熱處理作業(yè)提供高溫烘烤環(huán)境，滿足高真熱處理的溫度需求，配備多層金屬熱屏蔽，帶狀加熱絲。
3、 設(shè)備可通過程序自動升溫，可控制升溫速率、可設(shè)置分段加熱，并具備通過真空度檢測反饋控制加熱升溫的功能。
4、配備冷卻水機，對真空法蘭、爐膛外壁進行冷卻。
5、配備可拆換樣品托盤，材質(zhì)為鉬或陶瓷。
6、具備小型化特點，占地面積小，搬運靈活。
7、配備充氣口可充入保護氣體
8、干泵配備減震裝置，降低運行的振動
二：主要技術(shù)參數(shù)
真空
1、工作真空度：5.0×10-2Pa(熱態(tài))，冷態(tài)極限真出≤1.0×10-2Pa.在冷態(tài)、空載狀態(tài)下系統(tǒng)從大氣開始抽氣，30分鐘可達到2 Pa.60分鐘可達到 5.0×10-1Pa， 壓升率不大于 1Pa/h
2、工作溫度： 1200℃，保量過程中溫度波動小于±2℃。
3、 室溫極限真空度：2.0×10-4Pa(室溫)
4、抽速：從大氣30分達到0.1Pa，60分達到5.0×10-4Pa。
5、容量：可以容納不小于50Kg樣品重量。
6、壓力測量范圍：1.0×10-5Pa至3.0×105Pa。
2.2.2：加熱
1、加熱溫度：1200℃
2、 升溫速率： 15℃/min
3、 升溫速率： 0.1℃/min
4、升溫程序段數(shù)量： 20
5、控溫精度：±2℃
6、溫度過沖：<10℃
7、外壁溫度<50℃(開水機時)
8、空爐、密閉狀態(tài)下，從1100℃冷卻至 200℃用時不超過5 min:
9、具備冷卻水溫、水壓報警功能
其它要求
1、 外型尺寸：整體設(shè)備小于2.5*1.5*1.8米，設(shè)備可設(shè)計成可拆分結(jié)構(gòu)以滿足此要求
2、有效實用尺寸：300mm×300mm×400mm
3、放氣閥：1×KF16
4、噪聲：滿足工業(yè)場所噪聲標準
結(jié)構(gòu)與安裝要求
真空熱處理設(shè)備獨立放置，應(yīng)有清晰的標識，便于指導人工連接。
接口要求
采用標準真空密封法蘭。
產(chǎn)品涂覆、標識要求
應(yīng)在該設(shè)備外醒目位置上安裝銘牌，銘牌中有產(chǎn)品名稱、型號、出廠編號、出廠日期和承制單位等內(nèi)容。
本臺真空熱處理設(shè)備主要分為真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、電控及冷卻系統(tǒng)四部分組。
本設(shè)備為高真空鉬膽加熱距式前開門設(shè)備，真空容器主要由優(yōu)制S30408不銹鋼制造，為了防止高溫對人體燙傷所以容器做成了兩層，中間一層用來通水冷卻。所有抽氣設(shè)備裝在儀器內(nèi)，真空及加熱系統(tǒng)在控制柜上面的平板電腦上操作，本系統(tǒng)將真空加熱合為一體，提高了系統(tǒng)的集成性與穩(wěn)定性，操作使用簡單方便，同時系統(tǒng)還具有一定的擴展性和冗余性便于后續(xù)功能擴展的是真空度和溫度設(shè)備控制的核心。
將被試驗件放入真空腔內(nèi)，再將真空腔爐門關(guān)上(加熱為內(nèi)鉬膽加熱式)，就可開始工作。將真空抽至工藝規(guī)定的指標后，可加熱，并開啟高真空內(nèi)的加熱系統(tǒng)，可使器件內(nèi)管壁氣體分子及高真空管道內(nèi)壁上氣體分子脫附，并通過真空系統(tǒng)將其抽走。經(jīng)過一定時間后，使器件內(nèi)真空度達到工藝所需的真空度要求，就可進行陰極分解或器件的熱處理工藝，完成真空工藝流程。
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