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光氧等離子廢氣凈化處理設(shè)備

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更新時(shí)間：2020-09-22 17:57:15瀏覽次數(shù)：239次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

電壓	380v	加工定制	是
凈化率	98%

光氧等離子廢氣凈化處理設(shè)備工藝簡(jiǎn)潔、操作簡(jiǎn)單,方便，無(wú)需專人看管，需要定期清洗等離子發(fā)生體。節(jié)能：能耗低，運(yùn)行費(fèi)用低廉。

詳細(xì)介紹

光氧等離子廢氣凈化處理設(shè)備

等離子是由電子、離子、自由基和中性離子流組成，工作狀態(tài)呈流星雨?duì)顚?dǎo)電性流體，屬固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外第四種物質(zhì)形態(tài)。等離子發(fā)生器整體保持電中性，可靠。按離子的溫度，等離子分為熱平衡等離子體、非平衡等離子體和低溫等離子體。
等離子光氧催化廢氣處理設(shè)備工作原理：
當(dāng)廢氣進(jìn)入等離子光解一體機(jī)凈化設(shè)備內(nèi)時(shí)，先經(jīng)過(guò)等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，即電子先從電場(chǎng)獲得能量，通過(guò)激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時(shí)有部分分子被電離，從而成為活性基團(tuán)；之后這些活性基團(tuán)與分子或原子、活性基團(tuán)與活性基團(tuán)之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場(chǎng)的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子物質(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無(wú)害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。)
離子光氧除臭設(shè)備是低溫等離子廢氣凈化器+光氧催化廢氣處理設(shè)備兩種設(shè)備的完美結(jié)合，綜合采用了低溫等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合，對(duì)廢氣和臭氣進(jìn)行協(xié)同凈化處理！
工作原理：
（1）
廢氣和惡臭氣體經(jīng)過(guò)等離子體電場(chǎng)區(qū)，在納秒級(jí)時(shí)間范圍內(nèi)，等離子猛烈轟擊廢氣和臭味等污染物分子，產(chǎn)生裂變分解反應(yīng)，產(chǎn)生高濃度、高強(qiáng)度、高能量的各種活性自由基、高能電子、高能離子等，同時(shí)產(chǎn)生大量臭氧、原子氧、生態(tài)氧等混合氣體，進(jìn)行一系列復(fù)雜的分化裂解和氧化還原反應(yīng)；
（2）
廢氣和惡臭氣體進(jìn)入集成設(shè)備后，經(jīng)過(guò)UV紫外光束區(qū)時(shí)，被紫外光波高能率地照射，瞬間產(chǎn)生光解反應(yīng)，打開廢氣和臭味污染物分子的化學(xué)鍵，破壞其分子結(jié)構(gòu)和核酸；利用高能紫外光波分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧，使呈游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無(wú)害或低害的化合物。如CO2、H2O
等。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)；
（3）
UV紫外光解與等離子分解如此協(xié)同地產(chǎn)生一系列光解和分解反應(yīng)，經(jīng)過(guò)復(fù)合式多級(jí)凈化后從而達(dá)標(biāo)排放！既能安全地凈化治理各種有害廢氣，又能干凈地去除各種工業(yè)廢氣的氣味。
性能特點(diǎn)：
等離子光氧除臭設(shè)備在放電過(guò)程中，電子從電場(chǎng)中獲得能量，通過(guò)非彈性碰撞將能量轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能或動(dòng)能，這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成活性基團(tuán)，當(dāng)污染物分子獲得的能量大于其分子鍵能的結(jié)合能時(shí)，污染物分子的分子鍵斷裂，直接分解成單質(zhì)原子或由單一原子構(gòu)成得無(wú)害氣體分子。
2、等離子體中包含大量的高能電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)粒子和具有強(qiáng)氧化性的后型自由基，這些活性粒子和部分廢氣分子碰撞結(jié)合，同時(shí)產(chǎn)生的大量OH、HO、O等活性自由基和氧化性*的O，能與有害氣體分子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，后生成無(wú)害產(chǎn)物。
大氣污染是造成各類環(huán)境問題的主要原因之一，氣態(tài)污染物通過(guò)擴(kuò)散、漂移將增加污染區(qū)域面積。目前常用的惡臭處理方法有吸附法、溶液吸收法、催化燃燒法、生物脫臭法等;這些傳統(tǒng)處理方法在工程應(yīng)用中均發(fā)現(xiàn)存在較大的局限性。
近年來(lái)，低溫等離子體在環(huán)境保護(hù)方面的研究不斷取得新進(jìn)展，低溫等離子體技術(shù)理論研究上已經(jīng)被證實(shí)了是去除VOCs的較有效方法之一，同時(shí)在處理低濃度大氣量的惡臭氣體方面，低溫等離子體技術(shù)也表現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。
1低溫等離子體的反應(yīng)機(jī)理
等離子體是被稱作除固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之外的第4種物質(zhì)存在形態(tài)。其由大量電子、離子、分子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成，總正負(fù)電荷數(shù)相等，宏觀上呈電中性，故稱為等離子體，但其表現(xiàn)出很高的化學(xué)活性。根據(jù)放電機(jī)制、(氣體)壓強(qiáng)范圍和電極結(jié)構(gòu)的不同，產(chǎn)生低溫等離子體通常有以下方法：輝光放電、介電位壘放電、電暈放電、沿面放電、射頻放電、微波放電等。
2惡臭廢氣產(chǎn)生的途徑
企業(yè)產(chǎn)品在生產(chǎn)過(guò)程中先后經(jīng)歷了球磨、制帶、印刷、水壓、切割、燒成、燒出等處理。由于原料中包含有酒精、假苯、塑化劑、PET(聚對(duì)苯二假酸乙二酯)、分散劑、PVB(*縮丁醛)等有機(jī)物，此部分物質(zhì)在印刷、燒成時(shí)有不同程度的揮發(fā)，且由于燒成工段溫度高達(dá)280℃，一些高沸點(diǎn)的焦油狀不明物質(zhì)也一并揮發(fā)出來(lái)，從而產(chǎn)生污染。
通過(guò)現(xiàn)場(chǎng)調(diào)研及檢測(cè)發(fā)現(xiàn)，本項(xiàng)目中廢氣污染物質(zhì)量濃度較低，VOCs通常小于15mg/L，但廢氣氣味*，易使人產(chǎn)生不快感，因此本系統(tǒng)中廢氣屬于異味治理范疇。
3惡臭廢氣處理技術(shù)
3.1工藝流程
等離子體除臭系統(tǒng)工藝流程見圖1。整個(gè)廢氣處理系統(tǒng)設(shè)計(jì)風(fēng)量為60000m3/h，為保證處理效果，收集的氣體將在末端進(jìn)入2個(gè)并聯(lián)的低溫等離子處理系統(tǒng)，系統(tǒng)1設(shè)計(jì)為20000m3/h，系統(tǒng)2設(shè)計(jì)為40000m3/h。在風(fēng)機(jī)的動(dòng)力作用下，通過(guò)吸塵罩及公司原有管道將企業(yè)燒結(jié)工段的廢氣送入酸霧吸收塔內(nèi)，與塔中的循環(huán)水接觸吸收。進(jìn)過(guò)預(yù)處理后的氣體匯聚后通過(guò)直徑1100mm的風(fēng)管進(jìn)入低溫等離子設(shè)備(設(shè)計(jì)風(fēng)量為每臺(tái)10000m3/h)，經(jīng)過(guò)一系列復(fù)雜的物化反應(yīng)，降解后的氣體再送入旋流板凈化塔。
整個(gè)系統(tǒng)在PLC控制下，設(shè)置手動(dòng)和自動(dòng)2種操作方式。系統(tǒng)通過(guò)在線pH值控制器控制循環(huán)凈化液的pH值，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)加堿、噴淋、顯示和報(bào)警等功能。該系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、自動(dòng)化程度高。
3.2處理設(shè)備
整個(gè)廢氣處理系統(tǒng)由吸塵罩、酸霧凈化塔、低溫等離子、旋流板凈化塔和管道系統(tǒng)組成，在電氣系統(tǒng)控制下通過(guò)風(fēng)機(jī)進(jìn)行工作。
3.2.1吸塵罩與管道系統(tǒng)
吸塵罩的設(shè)計(jì)應(yīng)綜合考慮各塵源點(diǎn)廢氣的收集、設(shè)備的布局和操作方便，集氣吸塵罩的使用效果越好意味著越能滿足生產(chǎn)和環(huán)保的要求。
工程中的吸塵罩與管道系統(tǒng)均采用鍍鋅鋼板制造，管道系統(tǒng)安置在主廠房樓頂，每隔4~5m設(shè)置槽鋼支架。整個(gè)管路含控制閥、止回閥，要求密封良好、無(wú)泄漏，管壁厚度3mm。