詳細(xì)介紹
uv光解廢氣凈化設(shè)備 在高壓等離子電場(chǎng)的作用下,電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化,帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi),氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌,并去除了異味,有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
uv光解廢氣凈化設(shè)備
電催化氧化工藝集低溫等離子體、微波放電、極板放電與一體,在實(shí)際使用中實(shí)現(xiàn)廢氣的有效處理是極為復(fù)雜的過(guò)程,整個(gè)過(guò)程在不到1秒的時(shí)間內(nèi)完成。從理論到模型都能探究到相關(guān)的機(jī)理,通過(guò)三種方式的集中放電,廢氣分子從低能的E,在千分之一秒的時(shí)間內(nèi)躍遷到足以使其電離的Em級(jí),廢氣分子鍵充分?jǐn)嗔?,在雪崩式的撞擊中斷裂后的粒子由于質(zhì)量更小,被進(jìn)一步躍遷,與反應(yīng)堆內(nèi)的氧離子氫氧根離子發(fā)生反應(yīng),生成無(wú)害無(wú)味的CO2、H2O以及其它高價(jià)化合物。同時(shí)由于反應(yīng)堆內(nèi)臭氧以及紫外線的作用,*去除不同范疇的廢氣化合物,實(shí)地較為廣譜的去除空間。
低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為:在外加電場(chǎng)的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì),或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無(wú)毒無(wú)害或低毒低害的物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev,適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項(xiàng)具有*潛在優(yōu)勢(shì)的*,等離子體受到了國(guó)內(nèi)外相關(guān)學(xué)科界的高度關(guān)注。