W5型全譜直讀光譜儀擁有16項(xiàng)技術(shù)，可快速的對(duì)金屬材料樣品進(jìn)行元素測(cè)定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無(wú)論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。公司在行業(yè)內(nèi)擁有光譜多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)積累，針對(duì)不同材料、不同要求，設(shè)計(jì)了這款全新的、更具性?xún)r(jià)比的全譜直讀光譜儀，可滿(mǎn)足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開(kāi)發(fā)的應(yīng)用。

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵，全譜覆蓋，滿(mǎn)足客戶(hù)對(duì)全元素檢測(cè)的需求。

直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，保證紫外區(qū)域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強(qiáng)的靈敏度，滿(mǎn)足N的分析要求。

全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來(lái)*分析性能。

緊湊的設(shè)計(jì)及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。

高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿(mǎn)足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

激發(fā)臺(tái)直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)

開(kāi)放式樣品臺(tái)，滿(mǎn)足大樣品測(cè)試要求。

變換電極可對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能

視頻識(shí)別技術(shù)，確保樣品臺(tái)激發(fā)安全，可監(jiān)測(cè)樣品臺(tái)的全景。

智能氬氣流設(shè)計(jì)及粉塵收集清理裝置

*的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過(guò)程中等離子體的飄移，確保CCD檢測(cè)器能夠觀測(cè)高溫區(qū)域光信號(hào)，提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和*穩(wěn)定性。