工業(yè)型等離子清洗機產(chǎn)品特點：

高穩(wěn)定性能，可用于大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)；

*的電極結(jié)構(gòu)，確保等離子體的均勻性；

適合各種形狀的產(chǎn)品，通用性高；

自主研發(fā)集成控制系統(tǒng)軟件，操作便捷；

可按照客戶要求定制腔體尺寸和層數(shù)，滿足客戶的使用要求；

等離子體是由Sir William Crookes在1879年發(fā)現(xiàn)的。而等離子體清洗機應(yīng)用于工業(yè), 源于20世紀(jì)初。并且隨著等離子體物理研究的深入, 其應(yīng)用越來越廣, 目前已在眾多高科技領(lǐng)域中, 居于關(guān)鍵技術(shù)的地位。等離子清洗技術(shù)對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟和人類文明影響大的, 尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì), 不存在使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時間的清洗就可以使污染物被*地清洗掉, 同時污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達(dá)到分子級。 

目前已廣泛應(yīng)用的物理化學(xué)清洗方法, 大致可分為兩類:濕法清洗和干法清洗。干法清洗中發(fā)展較快、優(yōu)勢明顯的是等離子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機械等行業(yè)開始普遍應(yīng)用。濕法清洗要大量使用酸堿等化學(xué)物質(zhì), 而且清洗后產(chǎn)生大量的廢氣、廢液。當(dāng)然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據(jù)主導(dǎo)地位。但是從對環(huán)境的影響、原材料的消耗來看, 干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗, 更應(yīng)是未來清洗方法的發(fā)展方向。