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等離子清洗機晶圓加工處理,去除光刻膠

2021-4-11  閱讀(1618)

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在半導體器件生產過程中,晶圓芯片表面會存在各種微粒、金屬離子、有機物及殘留的磨料顆粒等沾污雜質,等離子清洗機干式處理設備優(yōu)勢明顯。

晶圓光刻膠去除傳統(tǒng)的濕化學方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應不能控制,清洗不*,容易引入雜質等缺點。作為干式方法的等離子清洗機可控性強,一致性好,不僅可以*去除光刻膠和其他有機物,而且還可以活化和粗化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤性。

等離子清洗機處理的物體表面被清潔,去除了油脂、添加劑等成分,消除了表面靜電。同時,表面得到了活化,增加了附著力,有利于產品的粘合、噴涂、印刷及密封。

等離子清洗機廣泛地應用原材料有聚乙烯,聚丙烯,聚氯乙烯,聚酯,聚甲醛,聚四氟乙烯,乙烯基,尼龍,(硅)橡膠,有機玻璃,ABS等塑料的印刷,涂覆和粘接等工藝的表面預處理,在數碼產品中手機外殼、手機按鍵、筆記本電腦外殼、筆記本鍵盤、塑膠產品等也有廣泛的應用。

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