等離子plasma清洗機設備：誠峰智造

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-XN

名稱（Name）

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-APO-500W-XN

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

10KW（Max）/40KHz（Option）

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-1200mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

3mm~8mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-8m/min

工作氣體（Gas）

N2/N2+CDA

產品特點： 內置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達10eV以上，

材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應用范圍：應用于FPC＆PCB表面處理，復合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領域的表面處理。

等離子清洗機也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。

　　離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。

　　等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

　　等離子清洗機原理：

　　等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質。