2021年11月19日，在美麗的杭州蕭山，集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟(以下簡稱“材料聯(lián)盟”)與杭州科百特過濾器材有限公司(以下簡稱“科百特”)聯(lián)合成功舉辦了集成電路超凈工藝技術(shù)Workshop，科百特微電子事業(yè)部總監(jiān)羅進文主持了本次會議。
隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點不斷演進，晶圓表面的潔凈要求也越來越嚴苛。晶圓表面微污染雜質(zhì)是影響芯片良率和芯片產(chǎn)品性能的關(guān)鍵因素。為應(yīng)對高階工藝對微污染控制提出的新挑戰(zhàn)和新需求，此次技術(shù)研討會邀請到了60余位半導(dǎo)體制造、硅材料、光刻膠、高純濕化學和拋光材料等相關(guān)行業(yè)的技術(shù)專家參會，共同探討新技術(shù)要求下的潔凈控制。
9點會議正式開始，杭州市蕭山區(qū)政府倪世英、集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟石瑛秘書長、科百特CEO Kevin、上海集成電路研究院董事長俞文杰為大會做了精彩的致辭。
杭州市蕭山區(qū)政府倪世英 致辭
集成電路材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟石瑛秘書長 致辭
科百特CEO Kevin 致辭
科百特CEO Kevin介紹了科百特專注在膜技術(shù)的發(fā)展，從微孔膜發(fā)展到現(xiàn)在的1nm的納米膜，主要應(yīng)用于兩大產(chǎn)業(yè)——生物制藥和集成電路，生物制藥主要用于除菌過濾，蛋白和病毒的濃縮和分離；在集成電路領(lǐng)域，可用于光刻、清洗、刻蝕和拋光等200多個工藝點的微污染過濾和純化，最小精度已經(jīng)做到1nm。科百特在納米過濾純化膜的研發(fā)道路上，離不開廣大客戶的鼎力支持。特別感謝國家、蕭山區(qū)各級政府的大力支持，讓我們可以更高效的為集成電路產(chǎn)業(yè)客戶提供強有力的供應(yīng)保障。
此次會議特別邀請了武漢新芯集成電路制造有限公司運營官孫鵬、上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發(fā)專家李芳科長、安集微電子科技(上海)股份有限公司應(yīng)用總監(jiān)王勝利和杭州科百特過濾器材有限公司CTO山田善章(Yamada Yoshiaki)做了精彩報告。
上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發(fā)專家李芳科長線上做了《*工藝清洗技術(shù)發(fā)展及其對相關(guān)材料的需求》的報告，從清洗工藝的發(fā)展和挑戰(zhàn)給材料廠家提供了方向和建議。隨著晶體管結(jié)構(gòu)逐漸過渡到立體的鰭式結(jié)構(gòu)、應(yīng)力效應(yīng)鍺化硅的導(dǎo)入、高深寬比深槽結(jié)構(gòu)的增加等一系列挑戰(zhàn)，單片清洗設(shè)備對SC1清洗劑和IPA的用量急劇增加。
武漢新芯集成電路制造有限公司運營官孫鵬在《高純化學品微污染控制》的報告中，介紹了當前半導(dǎo)體市場的發(fā)展趨勢及新的應(yīng)用領(lǐng)域?qū)π屡d細分化領(lǐng)域芯片的強勁增長需求：5G通信、物聯(lián)網(wǎng)、汽車微控制器及非易失性閃存芯片產(chǎn)品。這些新的芯片除了對常規(guī)運算/存儲性能以外，對基于安全的耐久性及功耗也有了超前的要求。孫總在報告中還分享了濕制程的相關(guān)案例，提出Fab對高品質(zhì)化學品穩(wěn)定供應(yīng)的要求。
安集微電子科技(上海)股份有限公司應(yīng)用總監(jiān)王勝利做了《*制程刻蝕后清洗技術(shù)》的報告，分享了后段干法蝕刻后的高選擇比清洗、氮化鈦掩膜的濕法回刻、3D NAND存儲器的高選擇比磷酸蝕刻、1Z DRAM的氧化鋯等High K薄膜蝕刻等一些關(guān)鍵技術(shù)難點工藝。
杭州科百特過濾器材有限公司日本支社社長兼技術(shù)官山田善章在《半導(dǎo)體制造工藝整體潔凈解決方案》的報告中從制程、制造工序、供應(yīng)鏈方面介紹了半導(dǎo)體工藝制程中的超凈需求，詳細介紹了半導(dǎo)體化學品(堿性溶液、極性有機溶劑、光刻化學品)除金雜的解決方案，1nm高階光刻過濾產(chǎn)品以及超純200L包裝桶，介紹了過濾、純化、潔凈包裝的解決方案。
11月19日下午，材料聯(lián)盟同本次參會的技術(shù)專家分別參觀了科百特半導(dǎo)體濾芯百級潔凈車間、7000平技術(shù)驗證中心、200L超凈包裝桶和高純化學品內(nèi)襯設(shè)備制造車間，大家感嘆科百特高速發(fā)展和通過技術(shù)攻克解決進口依賴表示高度贊賞，對科百特半導(dǎo)體的戰(zhàn)略發(fā)展給予積極的評價。
寧波南大光電材料有限公司總經(jīng)理許從應(yīng)博士主持了參觀后的技術(shù)分享會，參會嘉賓共同探討了半導(dǎo)體*制造工藝微污染控制面臨的挑戰(zhàn)，工藝化學品和光刻膠技術(shù)專家們分享了材料的現(xiàn)狀和急需要攻克的難題，其中TMAH的純化與高純化學品的包裝容器備受關(guān)注。
