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武漢賽斯特精密儀器有限公司
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所 在 地武漢市
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更新時間:2021-03-22 15:33:07瀏覽次數(shù):1113次
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全自動曝光機(jī) OAI在半導(dǎo)體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗,通過新的精英級光刻設(shè)備滿足了日益增長的動態(tài)市場挑戰(zhàn)。
全自動曝光機(jī)
適用于: 半導(dǎo)體, MEMS, 傳感器, 微流體, IOT, 封裝
OAI在半導(dǎo)體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗,通過新的精英級光刻設(shè)備滿足了日益增長的動態(tài)市場挑戰(zhàn)。
基于悠久的OAI模塊化平臺,6000系列具有前端或后端對齊,全自動化,亞微米分辨率,可提供與比的性價比。
OAI Aligners擁有*光束光學(xué)元件,其均勻性優(yōu)于±3%,在一次掩模模式下每小時可產(chǎn)生180片晶圓,從而提高產(chǎn)量。 6000系列可以處理超厚和鍵合襯底(高達(dá)7000微米),翹曲晶圓(高達(dá)7 mm-10mm),薄襯底(低至100微米厚)和厚光刻膠等各種晶圓。
憑借越的工藝可重復(fù)性,6000系列是所有生產(chǎn)環(huán)境的完美解決方案。選擇使用OAI基于Cognex的定制模式識別軟件的正面或可選背面對齊。對于整個光刻過程,Seriesl 6000可以與集群工具無縫集成。
優(yōu)勢:
· 全自動
· 上側(cè)對準(zhǔn)
選配:
· 底側(cè)對準(zhǔn)
· DUV 至 NUV
· 集群工具集成
· 客戶定制化軟件
全自動曝光機(jī)
規(guī)格:OAI系列 6000 掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)
曝光系統(tǒng)
曝光模式
真空接觸
硬接觸
軟接觸
近接觸(20μ gap)
分辨率
0.5-0.8μ
0.8-1.0μ
1.0-3.0μ
3.0μ
*的光學(xué)系統(tǒng)
均勻光束尺寸:
2” -200mm 正方形/圓形
200mm-300mm 正方形/圓形
均勻性
優(yōu)于±3%
攝像頭
帶CCTV擴(kuò)展景深的雙攝像頭
對準(zhǔn)系統(tǒng)
圖案識別
帶OAI客戶定制軟件的Cognex VisionProTM
對準(zhǔn)準(zhǔn)度
上側(cè)0.5μm
從上到下可選背面對齊的1.0μm
預(yù)對準(zhǔn)確度
優(yōu)于±5μm
自動對準(zhǔn)
從上到下
上側(cè)
晶圓處理
基版尺寸
2” -200mm 圓形或正方形或 200mm-300mm 圓形或正方形
薄晶圓
薄至100μm
翹曲的晶圓
翹至 7mm-10mm
厚和粘合襯底
厚至7000μm
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