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深入了解紫外線光解技術(shù)在半導體水處理中的應(yīng)用
紫外線光解技術(shù)被廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域，其中就包括超純水的制備。在超純水的生產(chǎn)過程中，微粒子、電阻率和TOC等任何一個指標稍有差異，都可能導致半導體元件生產(chǎn)的合格率下降。對于超純水處理，紫外線光解技術(shù)具有以下優(yōu)點。
1.殺菌作用：紫外線具有很強的殺菌能力，能夠有效殺滅超純水中的細菌和病毒，降低微生物的數(shù)量，保證水質(zhì)的純凈度；
2.臭氧消除：在半導體生產(chǎn)中，臭氧經(jīng)常被用來消毒和凈化水。然而，水中殘留的臭氧可能會影響半導體制備下一道工序。紫外線光解技術(shù)可以有效地分解水中的臭氧，避免其對設(shè)備造成影響；
3.降低總有機碳(TOC)： 紫外線光解技術(shù)能夠?qū)⒂袡C物質(zhì)分解成小分子，最終產(chǎn)物為二氧化碳和水，從而降低水的TOC含量；
4.余氯降解：在半導體生產(chǎn)過程中，為了避免對產(chǎn)品產(chǎn)生不利影響，去除水中的殘余氯是必要的預處理，紫外線光解技術(shù)能有效地去除水中的殘余氯；
5.安裝簡便：紫外線光解設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便，不需要特別的管道和設(shè)備在超純水制備過程中。
需要注意的是，當前半導體行業(yè)超純水制備工藝存在設(shè)計、施工安裝及運維方面等痛點，安力斯立足技術(shù)創(chuàng)新，針對行業(yè)技術(shù)難點攻克。用持續(xù)的研發(fā)投入與產(chǎn)品迭代，使安力斯擁有了超純水TOC光解技術(shù)。通過提升超純水水質(zhì)指標，優(yōu)化水循環(huán)再生解決方案，幫助提升產(chǎn)品良品率和水資源利用效率，以“雙維度”助力半導體企業(yè)降本增效。
安力斯-超純水TOC降解產(chǎn)品
總的來說，紫外線光解技術(shù)在半導體超純水處理中起到了非常重要的作用。它提高了產(chǎn)水水質(zhì)、降低了微生物數(shù)量、降解了有機物和余氯，為半導體領(lǐng)域的生產(chǎn)提供了重要的技術(shù)及設(shè)備支持。
