產(chǎn)品應(yīng)用

V2科研用真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結(jié)制品，也可用于金屬材料的熱處理。主要應(yīng)用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結(jié)、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

配置選項：

  設(shè)備結(jié)構(gòu)合理，設(shè)計及制造符合相應(yīng)的國家及行業(yè)標準和規(guī)范，使用、操作、維修方便簡捷，配套產(chǎn)品和元器件具有*水平，可穩(wěn)定、安全、可靠地滿足生產(chǎn)需求。

1. 1、多種測溫方式（ K,S,B,WRe 等熱電偶，紅外測溫儀）或組合選擇；
2. 2、立式爐膛，上 / 下取料；   3、 高溫金屬（鉬、鎢）/石墨材料加熱系統(tǒng)選擇，方便不同溫度或材料工藝需求；

產(chǎn)品特點

1. 均勻的加熱、可靠的隔熱及測溫： 合理的加熱結(jié)構(gòu)，優(yōu)良的材質(zhì)，保證真空狀態(tài)下爐溫的均勻性，采用品牌測溫元件，準確測溫。
2. *的自動控制及可靠的安全聯(lián)鎖： 采用計算機實現(xiàn)溫度、動作過程全自動控制、
   PLC 實現(xiàn)安全聯(lián)鎖，具有超壓、超溫水溫過高等聲光報警及聯(lián)鎖工能。
3. 可配置高生產(chǎn)效率的快冷系統(tǒng)： 配有內(nèi)循環(huán)快速冷卻裝置，高效換熱技術(shù)多方向吹向工件，冷卻快速均勻。較之外循環(huán)快速冷卻裝置，又具有占地小，面積小，起動溫度高，真空抽速快等優(yōu)點。

V2科研用真空爐技術(shù)參數(shù)