等離子清洗機原理

什么是等離子體：

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的轉(zhuǎn)態(tài)稱為等離子體轉(zhuǎn)態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。

在等離子體中存在下列物質(zhì)，處于高速運動轉(zhuǎn)態(tài)的電子，處于激發(fā)轉(zhuǎn)態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子、分子解離反應過程中生成的紫外線，未反應的分子，原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。

等離子清洗機工作原理分析：電漿與材料表面可產(chǎn)生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠等離子作物理反應。

（1）化學反應

在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4）等，這些氣體在電漿內(nèi)反應成高活性的自由基，其方程式為：這些自由基會進一步與材料表面作反應。其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在壓力較高時，對自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學反應為主時，就必須控制較高的壓力來近進行反應。

（2）物理反應

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好，為了進一步說明各種設(shè)備清洗的效果。

等離子體清洗機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

技術(shù)特點：

1.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料，耐用、防腐容易清潔。

2.儀器實現(xiàn)了手動，自動兩種模式任意切換的工作方式，方便用戶實驗

3.儀器實現(xiàn)了程序化設(shè)計，預先編輯好程序，儀器可以自動完成實驗

4.無需任何耗材使用成本低，無需特殊進行維護,日常使用保持儀器清潔即可

5.電容式等離子激發(fā)，處理效果均勻，激發(fā)電極板內(nèi)置樣品倉內(nèi)頂部懸掛

6.密閉真空環(huán)境下完成實驗避免二次污染

7.40Khz射頻電源,自主研發(fā)質(zhì)量穩(wěn)定可靠，具有自動保護功能。

8.靈活的參數(shù)設(shè)置和修改功能，可適應多種處理工藝。

9.采用皮拉尼真空技術(shù)，實時檢測和顯示樣品倉的真實真空度，具有1Pa的真空分辨率，能夠方便的接入MFC氣體流量控制儀，實現(xiàn)對氣體流量和真空度的精控制和監(jiān)測。

10. LED+金屬按鍵控制方式，操作方便穩(wěn)定可靠。