特點(diǎn)
采用紫外吸收光譜氣體分析技術(shù)和化學(xué)計(jì)量學(xué)算法
光源采用脈沖氙燈，壽命達(dá)10年
無(wú)光學(xué)運(yùn)動(dòng)部件
模塊化設(shè)計(jì)
信息數(shù)字化處理
測(cè)量輸出線性表達(dá)
多種狀態(tài)信號(hào)輸出：聲、光、畫(huà)面、繼電器、通訊信息
在同一條件下，可以與測(cè)量不同對(duì)象的氣體濃度組合成一臺(tái)儀器，最多四組份
應(yīng)用領(lǐng)域
電廠煙氣排放連續(xù)監(jiān)測(cè)CEMS(分析SO2、NO、NO2、O2)
脫硫工藝監(jiān)測(cè)(分析SO2、O2)
脫硝工藝監(jiān)測(cè)(分析NO、NO2、NH3、O2)
垃圾焚燒煙氣排放連續(xù)監(jiān)測(cè)(分析SO2、NO、NO2、O2)
氯堿廠PVC 工藝及鈦白粉生產(chǎn)工藝微量Cl2 分析(分析Cl2)
硫磺回收工藝氣體分析(分析SO2、H2S)
天然氣凈化工藝氣體分析(分析微量H2S)
煤化工分析(分析CH3I)
大氣在線監(jiān)測(cè)(分析SO2、NO2、O3)等
工作原理
紫外吸收光譜
電磁輻射(光)與原子和分子之間的相互作用是光譜檢測(cè)技術(shù)的基礎(chǔ)，目前已經(jīng)發(fā)展出紅外吸收光譜、近紅外吸收光譜、紫外吸收光譜、原子發(fā)射光譜、原子吸收光譜、質(zhì)譜、X射線熒光光譜等檢測(cè)技術(shù)。
紫外吸收光譜檢測(cè)技術(shù)的基礎(chǔ)是，紫外光與分子相互作用時(shí)被分子吸收導(dǎo)致光能的變化，由于不同分子內(nèi)部電子能級(jí)的躍遷能量和幾率的不同，使得不同分子具有特征吸收光譜，可見(jiàn)，紫外吸收光譜是分子在紫外波段吸收能力的定量描述。通常用吸收截面來(lái)描述單位分子的紫外吸收光譜：
典型氣體吸收截面
通過(guò)吸收光譜可分析分子濃度，其測(cè)量原理就是Beer-Lambert 定律：
I(λ) = I0 (λ) exp( - L * σ(λ) * X)
式中， I0(λ)表示波長(zhǎng)為λ的光的入射光強(qiáng)，I(λ)表示紫外光穿過(guò)濃度為X 和光程為
L 的待測(cè)氣體后的光強(qiáng)，σ(λ)為氣體的吸收截面，L * σ(λ) * X 稱為光學(xué)密度。
DOAS 技術(shù)
DOAS(差分吸收光譜)是一種利用氣體分子的吸收光譜高精度計(jì)算氣體濃度的技術(shù)，由德國(guó)Heidelberg 大學(xué)環(huán)境物理研究所的Ulrich Platt 教授首先提出。
DOAS 技術(shù)的基本原理是利用待測(cè)分子的窄帶吸收特性來(lái)鑒別分子，并根據(jù)窄帶吸收強(qiáng)度反演出分子的濃度。將分子的吸收截面看成是兩部分的疊加，其一是隨波長(zhǎng)緩慢變化的部分，構(gòu)成光譜的寬帶結(jié)構(gòu)，其二是隨波長(zhǎng)快速變化的部分，構(gòu)成光譜的窄帶精細(xì)結(jié)構(gòu)，如下式：
σi (λ)=σi 0 (λ)+σi r(λ)
其中σi (λ)是分子的吸收截面，σi 0 (λ)是吸收截面隨波長(zhǎng)緩慢變化的部分，σi r(λ)是吸收截面隨波長(zhǎng)急劇變化的部分。DOAS 方法的原理就是在吸收光譜中剔除光強(qiáng)隨波長(zhǎng)緩慢變化的部分，而只留下隨波長(zhǎng)快速變化的部分，然后用快速變化部分去反演氣體的濃度，從而可以避免因?yàn)楣庠礈仄蛩p、粉塵干擾、其他氣體干擾等因素引起的測(cè)量值波動(dòng)和漂移。
光學(xué)技術(shù)平臺(tái)
分析儀采用如下光學(xué)技術(shù)平臺(tái)來(lái)獲得紫外吸收光譜，該技術(shù)平臺(tái)由光源、氣體室、光纖和光譜儀(含光闌、全息光柵、線陣檢測(cè)器)等光學(xué)組件構(gòu)成，如圖：
分析儀光學(xué)流路圖
光源發(fā)出的紫外可見(jiàn)光經(jīng)光學(xué)視窗進(jìn)入氣體室，被流經(jīng)氣體室的被測(cè)樣氣所吸收，攜帶被測(cè)樣氣吸收信息的光經(jīng)透鏡匯聚后耦入光纖，經(jīng)光纖傳輸送入光譜儀進(jìn)行分光、采樣，得到氣體的吸收光譜。
通過(guò)對(duì)光譜進(jìn)行分析，可以分析出氣體中相關(guān)組分的濃度。
主要技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍：SO2：0～50PPm;0～300PPm;0～3000PPm及以上;
0～500～3000PPm (雙量程)(可選配，可定制)
NOx:同上
O2：0～25%
精 度： ≤±1%F.S;
穩(wěn) 定 性：零點(diǎn)漂移≤±1%F.S/7d;
量程漂移≤±1%F.S/7d;
中心單片機(jī)
樣氣流量：1.5L/min±0.5L/min
響應(yīng)時(shí)間：T90≤20秒(氣體直接通過(guò)氣室時(shí));
氣室壓力： ≤20Kpa;
觸點(diǎn)容量：120VAC, 1A 24VDC, 1A;
輸出信號(hào)：4～20mA或0～10mA DC可選;
預(yù)熱時(shí)間：≤ 30min
工作環(huán)境：溫度：-5℃～+45℃;
濕度：≤90%RH;
工作電源：220VAC±10%，50Hz±5%;
外形尺寸：19寸*3U*360mm
19寸*4U*360mm
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