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NicompZ3000納米粒徑及Zeta電位分析儀NicompZ3000 納米粒度儀

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北京斯達(dá)沃科技有限公司

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納米粒徑及Zeta電位分析儀Nicomp Z3000采用*的設(shè)計(jì)理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，充分有效地融合了動(dòng)態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）和電泳光散射（ELS）技術(shù)，即可以多角度（步長(zhǎng)0.9μm;）檢測(cè)分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測(cè)量Zeta電位。粒度測(cè)試范圍：粒度測(cè)試范圍：0.3 nm – 10 #181;m。

詳細(xì)介紹

納米粒徑及Zeta電位分析儀Nicomp Z3000介紹

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀采用*的設(shè)計(jì)理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，充分有效地融合了動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù)，即可以多角度（步長(zhǎng)0.9μm;）檢測(cè)分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測(cè)量Zeta電位。粒度測(cè)試范圍：粒度測(cè)試范圍：0.3 nm – 10 µm。

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀通過(guò)檢測(cè)分析膠體顆粒的電泳遷移率測(cè)量Zeta電位。Zeta電位是對(duì)顆粒之間相互排斥或吸引力的強(qiáng)度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo)，Zeta電位（正或負(fù)）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過(guò)粒子之間的靜電排斥力來(lái)保持穩(wěn)定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集，膠體也會(huì)越穩(wěn)定。NICOMP 380 Z3000結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試納米粒子分布和Zeta電勢(shì)電位。

應(yīng)用行業(yè)：磨料、化學(xué)機(jī)械拋光液、陶瓷、粘土、涂料、污染監(jiān)測(cè)、化妝品、乳劑、食品、液體工作介質(zhì)/油、墨水、乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等

自動(dòng)滴定儀

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀在增加自動(dòng)滴定模塊后，可以一次性使用同一樣品在不同PH值或不同離子濃度的條件下進(jìn)行一系列測(cè)試，實(shí)現(xiàn)了在等電點(diǎn)測(cè)試的技術(shù)難題。

相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技術(shù)

PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技術(shù)，用相位（Phase）變化的分析取代原先頻譜的漂移，不僅使 Zeta 電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對(duì)油、有機(jī)物體系同樣能提供 Zeta 電位的分析。

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀特點(diǎn)

同機(jī)測(cè)試懸浮液體的粒徑分布以及ZETA電勢(shì)電位

Zeta電位運(yùn)用了多普勒電泳遷移原理以及zui新的相位分析散射法可以測(cè)試水相和有機(jī)相的樣品

檢測(cè)范圍寬廣，亞微米顆粒均可以被檢測(cè)

樣品測(cè)試量小

高辨析率

結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差小于1%

99% 樣品可回收li用

可搭載自動(dòng)滴定儀, 自動(dòng)稀釋器和自動(dòng)進(jìn)樣器

無(wú)須校準(zhǔn)

一次性進(jìn)樣，避免交叉污染樣品

可選配大功率激光發(fā)生器以及jun品級(jí)APD雪崩二極管檢測(cè)器來(lái)檢測(cè)粒徑小于1nm的顆粒

技術(shù)參數(shù)：

粒徑檢測(cè)范圍	粒度分析：0.3 nm - 10 μm
Zeta電位檢測(cè)范圍	粒度0.3 nm-100 μm
分析方法	粒徑：動(dòng)態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 Nicomp 無(wú)約束自由擬合多峰算法；電位：電泳光散射(ELS)技術(shù)和相位分析光散射法
pH值范圍	2 - 12
溫度范圍	0℃ - 90 ℃
激光光源（可選）	5 mW氦氖光源； 15 mW, 35 mW,50 mW激光光源； 100 mW激光光源（紅）； 20 mW，50 mW，100 mW激光光源（藍(lán)/綠）
檢測(cè)角度（可選）	90°或多角度（10°- 175°，可選配）
檢測(cè)器（可選）	PMT（光電倍增管）， CMP（4倍增益放大） APD雪崩二極管（7倍增益放大）
高濃度樣品背散射	175°背散射
可用溶劑	水相,絕大多數(shù)有機(jī)相
樣品池	標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）； 1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，zui小進(jìn)樣量10μL）
選配模塊	高濃度背散射；自動(dòng)稀釋模塊，自動(dòng)進(jìn)樣器，多角度檢測(cè)器，高能激光發(fā)生器，高增益檢測(cè)器，21CFR PART11規(guī)范軟件，在線模塊。
分析軟件	Windows 兼容軟件；符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件（可選）
驗(yàn)證文件	有
電壓	220 - 240 VAC，50Hz 或100 - 120 VAC，60Hz
計(jì)算機(jī)配置要求	Windows XP及以上版本windows操作系統(tǒng)，40Gb硬盤(pán)，1G內(nèi)存，光驅(qū)，USB接口，串口（COM口）
外形尺寸	56 cm * 41 cm * 24cm
重量	約26kg（與配置有關(guān)）

電泳光散射法（ELS）與粒子的動(dòng)電（Zeta）電位：

ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來(lái)的一種新型光散射。它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論，只是在實(shí)驗(yàn)時(shí)在式樣槽中多加一個(gè)外電場(chǎng)，帶電粒子即以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)力光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度，因此實(shí)驗(yàn)測(cè)得譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度，從而求得ζ-電位。

相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技術(shù)

動(dòng)態(tài)光散射原理

Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動(dòng)態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來(lái)獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過(guò)一定波長(zhǎng)的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會(huì)互相干涉從而影響散射強(qiáng)度，散射強(qiáng)度隨時(shí)間不斷波動(dòng)，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象（或布朗運(yùn)動(dòng)）導(dǎo)致光強(qiáng)不斷波動(dòng)。光強(qiáng)的變化可以通過(guò)探測(cè)器檢測(cè)得到。使用自相關(guān)器分析隨時(shí)間而變的光強(qiáng)波動(dòng)就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過(guò)衰減時(shí)間計(jì)算得到粒子擴(kuò)散率。zui終，粒子的半徑可以很容易地通過(guò)斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計(jì)算得到。

如下是Nicomp 380納米粒徑分析儀的檢測(cè)原理簡(jiǎn)圖：

大部分樣品一般都不均勻，往往會(huì)呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測(cè)出來(lái)的粒徑正態(tài)分布范圍會(huì)比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù)都會(huì)因指數(shù)衰減時(shí)間不同而存在差異，此時(shí)計(jì)算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡(jiǎn)單。

Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運(yùn)用了去卷積算法來(lái)轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出zui接近真實(shí)值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測(cè)試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，li用一組*的去卷積算法將簡(jiǎn)單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司的粒徑分布表達(dá)方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。

有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能，以此來(lái)補(bǔ)償測(cè)試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問(wèn)題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來(lái)分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質(zhì)體。

Nicomp分析方法是一種專li的高分辨率的去卷積算法，它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計(jì)粒徑分布。在歷已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例），甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀廣泛適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。

關(guān)鍵詞：滴定儀稀釋器粒度儀